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박막의 형성이 가능하다.
-단점: 성막속도가 낮다. High energy deposition이므로 박막의 불균일과 damage 발생요인이 된다. 박막이 전자, UV, 이온 등에 노출되어 가열된다(100~150℃)
-DC sputtering
직류전원을 이용한 sputtering방법이다. 구조가 간단하며 가
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나노 재료의 관찰, 분석 없이는
나노 재료의 발전도 기대할 수 없다.
- 나노 재료 구조
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1차원
2차원
3차원
복합차원
다차원 복합체(다상, 단상)
양자결정, 벌크(치밀체, 다공체), 다상복합체
나노박막(단층/다층, 단일/복합), 층상화
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나노재료로 만드는 기술이다.
원자나 분자 단위로 물질을 공급하여 박막구조를 갖는 나노구조물을 만드는 증착법이 여기에 속한다.
3. 콜로이드란?
물질의 분산상태를 나타내는 것인데, 보통의 분자나 이온보다 크고 지름이 1nm~100nm 정도
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박막제조기술 개발’ 등 3개 과제가 신규로 선정되어 5년간 연 14∼16억원을 지원할 계획이며, 부품소재개발의 소재원천기술개발 프로그램을 통해 ‘다기능성 나노박막 복합구조화 기술개발’ 과제가 선정되어 10년간 연17억원을 지원할 계획
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나노박막의 경우 배향된 방위에 따라 bulk와는 다른 배위수를 갖기 때문에 등방성을 갖는 bulk와는 달리 방위에 따른 의존성도 고려하여야 한다.
5.Reference
http://ks.hmall.com/top/detail?eid=06fKk
고체물리 -kitell- 1. NANOSTRUCTURE(나노구조)의 특징.
2. n
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