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Thin Film Deposition, McGraw Hill Inc., 1995
4. Milton Ohring, The Materials Science of Thin Films, Academic Press, 1992 1. Introduction
1) CVD의 정의
2) CVD의 분류
2. Thermodynamics and Kinetics
1) Equilibrium Thermodynamics of Reactions
2) Chemical Reaction Kinetics
3. Therma
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도쿄일렉트론코리아의 브랜드 가치를 높이고, 고객의 신뢰를 더욱 공고히 하는 데 기여하겠습니다. 현장에서의 경험과 기술 역량, 그리고 항상 배움의 자세를 유지하는 태도를 바탕으로 회사의 성장과 함께 개인의 역량도 지속적으로 향상시
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Engineer로서 팀 내 협업 또는 타 부서와의 협력 경험을 통해 얻은 교훈이나 성과를 기술하시오.
4. 도쿄일렉트론코리아의 Process Engineer로 입사한다면, 어떤 방식으로 회사의 열처리/박막 공정 발전에 기여할 수 있다고 생각하는지 구체적으로
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원활한 의사소통을 위해 중요한 요소는 무엇이라고 생각하며, 그것을 어떻게 실천할 것인지 서술하시오.
4. 본인이 갖춘 기술적 역량이나 경험이 도쿄일렉트론코리아의 업무에 어떻게 기여할 수 있다고 생각하는지 구체적으로 설명하시오.
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도쿄일렉트론코리아 개요, 강점, 반도체 장비소개
2. 자기소개서 (자사양식)
2.1 도쿄일렉트론코리아에 지원하게 된 계기와 지원하신 직무에 대한 생각을 기술해주시기 바랍니다. (500자)
2.2 성장과정과 학창시절, 성격의 장단점에 대해
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설명해 주세요.
3. 고객 또는 현장 담당자와의 커뮤니케이션에서 중요하게 생각하는 점은 무엇이며, 이를 어떻게 실천했는지 알려 주세요.
4. 본인이 도쿄일렉트론코리아의 Field Engineer(FE)로서 기여할 수 있는 강점과 포부를 서술해 주세요.
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