|
서론
2. 본론
2.1 CVD 공정의 원리
2.2 CVD 공정의 특징 및 장점
2.3 CVD 공정의 분류
2.4 CVD 공정의 세부 응용 분야
2.5 CVD 공정의 최신동향
3. 결론
4. 그림 및 표
5. 참고 문헌
|
- 페이지 11페이지
- 가격 2,000원
- 등록일 2008.12.21
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
및 전기화학적 방법
① 음극 전해 성막법
② 무전극 또는 무전기 성막법
③ 양극 산화법
④ CVD (chemical vapor deposition)
⑤ 액상 에피탁시법
⑥ Langmuir-Bliogett막 형성법
⑦ 흡착방법
(2) 진공 증착
① 물리적 기초
② 실험 기술
(3) 이온을 이
|
- 페이지 21페이지
- 가격 3,000원
- 등록일 2008.10.29
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
연구실에서 널리 활용되고 있 다.
<그림 1-20.1 PLD 기본원리>
◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의
|
- 페이지 21페이지
- 가격 1,500원
- 등록일 2008.10.29
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
개발자가 되고자 합니다. 이 관점이 현대오토에버가 추구하는 실효적 AI 기술 철학과 맞닿아 있기를 바라고 있습니다. 현대오토에버 2025년 하반기 신입 개발자 집중 채용 대비 자기소개서
1) 차량전장SW_임베디드SW 개발/관리(차량전장SW)
|
- 페이지 15페이지
- 가격 5,000원
- 등록일 2025.07.24
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|
|
개발을 통한 신산업 창출
2. 나노바이오텍 기술개발
3. NT 기술개발을 통한 IT 고도화
4. 농림축산업의 국제경쟁력 강화를 위한 BT 기술개발
5. 환경친화성?인체적합성이 높은 신화학 기술개발
6. NT이용 테라급 반도체 및 나노메카트로닉스 개
|
- 페이지 11페이지
- 가격 6,500원
- 등록일 2013.07.29
- 파일종류 한글(hwp)
- 참고문헌 있음
- 최근 2주 판매 이력 없음
|