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형상을 그리는 것을 확인할 수 있다. 1. 목적 및 개요
2. 기초이론
(1) 경계층두께(boundary layer thickness)
(2) 배제두께(displacement thickness)
(3) 운동량두께(momentum thickness)
3. 실험장치
4. 실험방법
5. 실험결과
6. 토의 및 고찰
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과로써 속도와 표면의 거칠기가 배제 두께와 운동량 두께와 비례함을 알 수 있다.
4) 레이놀즈수
(At 25℃, ) ->
(At 25℃, ) 특성길이 : 0.27m
Rough High Re
Rough Low Re
Smooth High Re
Smooth Low Re
131.2719
87.1448
133.3754
87.7689
14.8910
12.1328
15.0100
12.1761
2.1733
1.770
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The optimum annealing temperature for the maximum PL yield strongly depends on the film thickness and varies from 800 to 1200 °C.
The PL intensity is directly related to the content of the Si–-N bonds in the SiNx films.
Excessively high annealing temperatures lead to weakened Si–-N
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두께가 매끈한 면에서의 경계층 두께보다 2배가량 두꺼운 것 을 알 수 있고, 그만큼 경계층의 성장도 빠르다. 이러한 차이가 생기는 이유는 거친면에 서는 표면에서의 표면마찰항력이 더 크기 때문이다.
③ 매끈한 면에서의 속도변경 후 경계
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도 오차를 크게 하는데 한 몫한 것으로 추정된다.
7. (4-11), (4-13)의 정의 식을 이용하여 경계층 두께, 배제 두께, 운동량 두께를 계산하고 (4-10), (4-12), (4-14)의 계산식을 이용하여 계산된 값과 그 차이를 논한다.
①경계층두께
mm
②배제두께
mm
mm
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＝ - Drgom ─────
db
Dρm
∴ Na ＝ Ja ＝ ───── (yai - ya)
Bt
? ?? ?? ? ? ?
(Bt : 경막두께 film thickness, i : 계면)
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배제하고 문제 해결에 집중할 수 있도록 중재 역할을 자주 맡아왔습니다.
Q4. 동우화인켐에 지원한 동기는 무엇인가요?
A4. 동우화인켐은 이차전지 소재 분야에서 뛰어난 연구 역량과 글로벌 시장에서의 경쟁력을 가진 기업으로 알고 있습니다
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