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결정질 vs 비정질
결정질 냉각 시 unstable 액상→stable 고상으로 변화 장범위 규칙성을 가지며 배열 →공간 최소화
비정질 냉각 시 unstable 액상 →metastable 고상으로 변화 액상과 유사한 단범위 규칙성을 가지며 배열 결정립이 없기 때문에 결
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(1999). 도금기술편람. 기전연구사.
· 원국광(2004). 합금도금. 동화기술.
· 성주창(2000). 도금기술용어사전. 골드. Ⅰ. 주 제
Ⅱ. 연 구 자
Ⅲ. 연구목적
Ⅳ. 실험방법 및 과정
Ⅴ. 관련이론
Ⅵ. 결과
Ⅶ. 고찰
Ⅷ. 참고문헌
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전자 공학 - 이정한
반도체 (공정 및 측정) - 전자자료사 편집부
박막 프로세스의 기초 - 금원찬 외 공저
박막공학의 기초 - 최시영 외 공저
재료과학 - Barrett 외 1. 실험 제목
2. 실험 목적
3. 실험 방법
4. 실험 이론
5. 참고 문헌
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공정실험"
2. R.B. Prime, in " Thermal Characterization of Polymeric Materials", E.A. Turi, Ed,
Academic Press, New York (1981), Chap 5.
3. T. Ozawa, j. Thermal Anal, 2, 301 (1970)
4. A.A. Duswaalt, Thermochem. Acta, 8, 57 (1974)
5. http://www.yeonjin.com/makers/mt/fp/fp900.htm
6. http://www.scinco.c
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전류가 남아있는 정도를 측정하는 것으로써 이 잔류전류가 작아야 좋은 액정이라 할 수 있다. 1. TFT-LCD 제조기술
2. TFT-Array 공정
3. Color Filter 제조공정
4. 액정 Cell 공정
5. TFT-LCD 부품 및 소재 기술
6. TFT(Thin Fim Trasistor)의 특성
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