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연구소 논문집 제17집, 1997, p.251 1. 서 론
2. 이 론
2.1 TiO2의 기본적인 성질
2.2 광촉매
2.2.1 광촉매의 정의
2.2.2 광촉매의 종류
2.2.3 광촉매의 원리
2.2.4 광촉매의 제조
2.3 광 촉매 응용 및 용도
2.3.1 수질 오염 정화
2.3.2
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제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 1. 박막(Thin film)
1) 박막이란?
2) 박막형성기술의 개요
3) 박
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다.
<그림 1-20.1 PLD 기본원리>
◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 없음
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개발부(MRNT)의 나노기술개발 지원은 국립과학연구원(CNRS), 국립우주연구소(CNES), 원자력청(CEA)에 집중되고, 산업부에서는 응용연구 분야를 지원
□ 영 국
* 나노기술 산학연 공동연구 및 마이크로나노기술제조전략(MNT : Micro and Nanotechnology Manufac
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나노복합절연체 박막소재
2-7-2.박막화 기술
2-8.나노복합 절연체 제작 공정 및 유기물 절연체 형성
2-8-1. pentacene 반도체 층 증착
2-8-2. Al source-drain 전극 증착
2-8-3. 표면처리
2-8-4.전기 도금된 Ni의 표면조도
2-8-5.나노입자에 따른mobility
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