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많이 든다.
저온 플라즈마의 가스온도는 배출가스의 온도이며, 전자의 온도만 높기 때문에 고온을 적용할 수 없는 재료나 조건에 적용할 수 있고 장치가 간단하다. 주제 선정
저온 열 플라즈마
대기압 플라즈마
현황
동향
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현황 및 수용에 관한 조사 연구, 한국콘텐츠학회, 2004
오경희 - 나노표준의 역할과 나노기술 국제표준화 동향, 지식경제부 기술표준원. 2008
이광호 - 융합시대의 나노기술의 의미, 한국과학기술학회, 2008
이영희 - 나노기술을 둘러싼 사회적 쟁
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동향 / 신동기 / 전자공학회지 제24권 제3호
-PDP 연구개발 현황 및 시장 동향 / 박명호 / 전기전자재료학회지 제 13권 제8호
-유망 전자기기, 부품 현황 분석 PDP, IT 리포트, KETI, 2004. 12.
-플라즈마 디스플레이의 기술과 현황 / 강정원 회 / 반도체및
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동향……………………………………………………………………8
1) 국외
2) 국내
6. IGCC관련 특허출원 현황………………………………………………………11
1) 국가별 특허출원 동향
2) 기술분류별 특허출원 동향
3) 상위 출원인(기
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열전재료개발, 한국과학기술연구원, 1990.
[3] http://www.acetec.net
[4] http://www.thermotek.co.kr
keyWords : 열전재료, Seeback 효과, Peltier 효과, 열기전력, 냉매가스 1. 기술 개요
2. 국내외 기술개발현황 기술수준
3. 향후 국내외 기술개발 동향 및 전
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