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- Process step of PVD
- Characteristic of PVD
- Classification of PVD
: Evaporation (진공 증착)
: Sputtering
- DC sputtering
- RF sputtering
- Magnetron
: Ion plating (이온 도금)
- Comparison of sputtering
PVD (Physical Vapor Deposition) 란 ?
PVD 공정은 생성하고자 하는 박막과 동일한
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- 페이지 19페이지
- 가격 2,000원
- 등록일 2010.03.22
- 파일종류 피피티(ppt)
- 참고문헌 없음
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