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1. 반도체 노광 공정 시장 점유율
2. EUV용 Pellicle 시장 규모 및 개발 현황
3. EUV용 Mask 기술 현황_1(Mask Writing 장비)
4. EUV용 Mask 검사 기술 현황 및 시장 규모_1
5. EUV용 Mask 검사 기술 현황 및 시장 규모_2
6. EUV용 계측 기술 현황 및
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◈ 주제선정 동기
1. IT 산업의 중점인 반도체
2. 메모리부분 발전가능성
3. 기술면접에 대한 대비
4. 새로운 지식을 쌓을 수 있는 기회.
◈ 현 최신 기술 동향
AMD와 IBM이 공동으로 초 자외선( Extreme Ultra-Violet, EUV)마이크로 영상기술을
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되고 아직 파워 목표치에 달하는 값을 내놓지 못하고 있어 많은 연구가 필요한 분야로 생각된다.
● 결론
현재 알기로는 Lithography 독보적 선두기업인 네덜란드 기업 ‘ASML’이 EUV 기술과 장비를 보유하고 있으나 EUV Lithography 장비 1대의 가격이
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EUV 포토레지스트와 플루오린폴리이미드 같은 전략 품목은 90% 이상을 수입에 의존하는 실정이다. 이는 2019년 일본의 수출 규제 사례에서 보듯 국가 경제와 산업 전반에 심각한 리스크로 작용할 수 있다. 이에 대응해 5조 원 규모의 반도체 소재
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025년까지 양산하겠다는 목표를 가지고 있으며 기존의 EUV 자체 기술력 또한 강화할 계획을 세우고 있다.
반도체 업계에서 ASML은 흔히 ‘슈퍼을’기업이라고 부른다. 보통 공급자는 수요에 맞춰 생산하며 제품단가는 수요자가 우위를 점하고
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에서 저는 EUV 리소그래피 공정의 최적화를 위해 공정 변수(노광 강도, 레지스트 두께, 베이크 온도 등)를 조정하는 실험을 수행하였으며, 데이터 분석을 통해 공정 안정성을 극대화하는 최적의 변수를 도출하였습니다. 그 결과, 기존 공정보다
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MOSFET 분석, EUV 공정 시뮬레이션, High-k 절연막 연구, 데이터 기반 불량 예측 공모전 등 다양한 경험을 통해 공정설계 전문성을 쌓았습니다. 이 경험을 통해 데이터 분석력과 문제 해결력, 실험 설계 능력을 모두 습득했으며, 이는 CTO 반도체연구
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산하고 있는 기업으로, ArF에서 EUV까지 기술력을 확보하고 있으며 국산화에 중요한 기여를 해왔습니다. 특히 ArF 드라이와 i-line에서 확보한 고객 기반과 품질 신뢰도는 향후 고부가 공정소재 시장 진입 시에도 큰 강점이 될 수 있습니다. 글로
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로 각 회사마다 반도체를 자체적으로 설계하고 있습니다. 미래의 반도체 업계에서 성장할 시장은 위탁 생산하는 파운더리 시장이라고 생각합니다. 이때, 반도체 장비는 반도체 생산력을 좌우하는 핵심요소입니다. EUV 노광장비의 경우, ASML에
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합하게 정착될 수 있도록 기술 브리핑과 사용 가이드 제작에도 참여할 수 있을 것이라 기대합니다.
장기적으로는 기술적 전문성을 바탕으로 특정 장비군의 국내 총괄 기술지원 역할까지 맡고 싶습니다. 특히, EUV 마스크 검사 장비와 같이 정
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