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많이 활용되지 못하고 있는 것으로 보이며 이러한 문제점들에 대해서는 현재에도 지속적인 개선작업이 이루어지고 있다. ICP-MS (Inductively Coupled Plasma)
(1) ICP-MS란?
(2) 구성장치
1. Interface
2. 질량분석장치
(3) 기존 장비와의 비교
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ICP-AES)을 이용하여 합금의 조성을 정확하게 분석하고 제조한 조성과 비교 확인한다.
? 이론적 배경
? 유도결합플라즈마 방출 분광법(ICP-AES)란?
? ICP의 원리 : ICP는 ‘inductively coupled plasma(고주파 유도 결합 플라즈마)’의 약어이다. 중성원
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1. 서론
ICP-MS 는 inductively coupled plasma-mass spectrometry의 줄임 말로, 그 뜻을 직역하면 유도결합 플라즈마 질량 분석법이다. 이는 매우 정교하여 part per trillion 단위의 금속 원소및 일부를 제외한 비금속 원소함량의 정량적 측정이 가능하다. 최근
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ICP-MS (Inductively Coupled Plasma)
(1) ICP-MS란?
(2) 구성장치
(3) 기존 장비와의 비교
9. AAS (atomic absorption spectroscopy)
(1) AAS원리
(2) AAS의 구성
(3) 감도 및 검출 한계
(4) 적용범위
(5) 분석방법
10. XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy)
(1) 기본원리
(2) ESCA
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ICP발광분석법 (ICP : Inductively Coupled Plasma Atomic Emission Spectrometry)
① 원리
산 등에 시료를 녹여 제작한 시료용액을 고주파 유도 플라즈마 안에서 분무하면 시료 중의 원소가 고온에서 여기 되어 발광하는 원리를 이용한다.
② 방법
발광 파장은
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ICP-RIE를 사용하여서 Etch를 진행하였고 장비에서 파라미터를 변화시켜 이에 따른 웨이퍼의 특성변화를 측정할 수 있었습니다. 이를 통해 Etch rate, Selectivity, Uniformity등의 주요특성이 공정파라미터에 따라 어떻게 변하는지 알게 되었습니다. 이
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