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ITO 기판의 Scribing
① ITO coating면을 위로 향하게 하여Scriber 위에 올려놓고 진공펌프를 작동시켜 고정시킨다.
② 원하는 크기(35mm×35mm)의 Size로 ITO Glass를 자르고 질소(또는 에어)를 이용하여 유리가루 등의 이물질을 불어낸다.
2)ITO 기판의 전처리
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ITO 박막의 특성 연구 (1995)
8. 대한산업협회, 유리제조작업 (1990)
9. 류태수, 한국 디스플레이산업의 기술개발과정에 관한 연구, 학술발표회
(1999) Ⅰ. 서론 ․․․․․․․․․․․․․․․․
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http://en.wikipedia.org/wiki/Methanol
[11]. http://sun.uos.ac.kr/info/usclean/usclean.htm
[12]. 플라즈마와 UV/O3를 이용한 반도체 표면세정(인하대학교 대학원금속공학과 임 종 민) 논문 발췌
[13]. 세정기술자료 Excimer/UV 세명백트론(주) SMT 발췌 없음
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소자(PIN diode, IMPATT diode)
Power소자(thyristor, ion sensor, pressure sensor, IR imaging)
5. TFT-LCD 제조공정
- 반도체인 TFT공정에서 생산된 TFT기판과 Color Filter공정에서 생산된 C/F기판을 접합시키고 그 사이에 액정을 주입하는 공정
1). 초기세정
- Glass를 TFT line
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ITO-glass 세정
ITO가 코팅 되어있는 유리 기판상의 오염물질을 제거
중성세제, NaOH 등 사용
ITO-전극패턴
ITO 전극을 설계치대로 패턴화
노광법을 많이 사용함
BUS 전극패턴
BUS 전극(보조 전극)을 형성함
인쇄법(Ag paste), 포토법(Ag 감광성 paste),
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