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때문에 초대규모 집적 회로(VLSI) 등 정밀도가 높은 미세 가공에 적합하다.
2. SIMOX
SIMOX방식 ☞ 산소의 주입에 의한 분리 방식
실리콘 웨이퍼의 표면에서 실리콘의 1. RIE
2. SIMOX
3. LOCOS
4. RTA
5. MOCVD
6. LPCVD
7. CMP
♨ 참고 문헌 ♨
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LOCOS)의 내산화 필름
·MNOS 메모리
다결정 Si
·Gate 전극
·배선용
·산화물 dope(SIPOS)
·확산원(doped poly silicon)
SiO2
PSG(SiO2/P2O5)
BPSG(SiO2/P2O5/B2O3)
·층간절연막(poly silicon/Al, Al/Al)
·Passivation막
·확산원(P, B, As)
Mo, W
MoSi2, WSi2
·Gate 전극
·배선용
·T
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