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HP4145로 IV 추출, w/f-Ids 그래프에서 edge의 spec over을 발견했습니다. Ids와 tox가 반비례하므로 edge에서 tox가 작음을 유추했습니다. 온도, 도핑농도가 확산계수와 비례하므로 gate oxide공정에서 edge온도와 도핑농도가 center보다 낮은 것이 원인임을 파
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Oxide 등과 같은 소자를 동물에 비교해보아라.
26
히스테리시스가 무엇인지?
27
안전이란 무엇인가?
28
태양전지와 디스플레이 차이를 말해보라.
29
학점이 왜 낮은지?
30
대학원을 진학안한이유는 무엇인가요?
31
tft 공정에 대해 설명해봐라.
32
디
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Oxide 등과 같은 소자를 동물에 비교해보아라.
26
히스테리시스가 무엇인지?
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29
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30
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31
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32
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oxide가 생성되었기 때문일 것이라는 가설을 세웠습니다. 교수님과 논의 후 알루미나로 기판을 교체하여 다시 진행하였고, 재현성이 이전과 유사하게 나와 연구를 진행할 수 있었습니다.
공정 엔지니어에게 중요한 자질은 자신이 맡은 단위공
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Oxide tft의 장점이 무엇인지 설명하라
18. 히스테리시스 곡선이 무엇인지 설명하라
19. 안전에 대해 어떻게 생각하며, 선후배가 위험한 행동을 하면 어떻게 할 것인가?
20. 삼성과 lg의 oled 차이점 말해보세요.
21. LG디스플레이의 강점
22. LG디스
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