|
배율의 곱으로 구할 수 있는데, 이를 정리하면 , 첫 번째 렌즈와 물체 사이의 거리, 첫 번째 렌즈의 초점거리, 두 번째 렌즈와 상의 거리를 알면 비교적 간단하게 측정할 수 있다. 위 식을 이용하여 우리가 실험한 렌즈의 배율을 구하면, 3.8배이
|
|
|
원자적층법에 대한 기본적인 지식을 가지게 된다.
원자적층법의 중요성을 인식하게 된다.
AFM과 SPM의 구조 및 작동원리를 이해하게 된다.
AFM과 SPM의 중요성을 인식하게 된다.
Atomic Holography의 구조 및 작동원리를 이해하게 된다.
Atomic Optics
|
|
|
optics.hanyang.ac.kr/~shsong/hitechphysics-note /medicalphysics/MRI.htm /
4) http://www.cis.rit.edu/htbooks/mri/inside.htm 1. MRI 정의 및 역사
2. MRI system의 물리적 원리
1) 원자핵의 자화 ( Magnetization )
2) 원자핵의 공명
3) 원자핵의 이완(Relaxation)
(1) T2 Relaxation
(2)
|
|
|
Optics, Pedrotti
Optics, Eugene Hecht
한국광산업진흥회 전자도서관
경상대학교 - 물리의 이해 http://physica.gsnu.ac.kr/
위키피디아 - http://ko.wikipedia.org 1.실험이론
2.실험장비
3.실험방법
4.측정값
5.실험결과
6.질문및검토
7.토의및감상
8.참고문헌
|
|
|
원리 9
3) 반도체 광촉매의 조건 12
4) 광촉매의 장점 12
5) 나노 반도체 금속산화물 광촉매의 종류 13
6) 분말형 광촉매와 액상 졸형 광촉매의 비교 14
7) 반도체 광촉매 제조기술 14
8) 광촉매의 활용 16
9) 이산화티타늄 광촉매의 고
|
|
 |
OPTICS, Addison-Wesley, 2001, pp.476-479. Ⅰ. 서 론
1. 연구 배경
2. 연구 목적
Ⅱ. 홀로그래픽 리소그래피 시스템을 이용한 나노 패턴 제작
1. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 시스템 원리
2. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithograp
|
|
메뉴펼치기
