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Cherie R. Kagan & Paul Andry, Dekker, Thin-Film Transistors pp139∼140, pp158∼181 1. Introduction
2. Samsung electronics
3. What is TFT-LCD?
4. Compare TFT-LCD fabrication with semiconductor fabrication
5. Technology of Polysilicon Thin-Film
6. TFT-LCD Future
7. References
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함, 소자번호와 날짜가 표시됨 Fabrication process of CMOS
(CMOS 제작공정)
■ CMOS
■ 웨이퍼제작
■ CMOS 집적회로 제작에 사용되는 공정
■ CMOS 집적회로 제작
■ BiCMOS 집적회로 제작(향상된성능)
■ 마무리 공정 및 테스트표시됨
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3 million times operation)
High bi-stability
Input voltage: 50-150V
Slow response time: 80-100ms
Research background
Electrophoretic display: electronic paper display utilizing positively and negatively charged microcapsules 1. Research background
2. Electronic paper fabrication
3
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Fabrication 생산 글로벌화 과정: NEC/도시바/
삼성전자의 Fabrication Capacity Expansion Processes 비교 중심으
로,\" 한국과학기술원 석사논문, 1999.
조희연, \"우리나라 반도체산업의 국가경쟁력과 발전방안,\" 서강대학교 석사
논문, 1996.
변병문, \"한국 반
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■ Samsung electronics
● 08 / 01 : Developed the first 40-inch
● 10 / 02 : the first 46-inch panel
● 12 / 03 : the first 57-inch model
● 03 / 05 : the first 82-inch panel
● Invest over $2 billion in the development of a 7th generation LCD production line 1. Introduction
2. What is TFT-LC
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Fabrication and Measurement of Microstrip Filter and Coupler Circuits\", CAP Wireless, Inc., July 2002
[3] E. G. Cristal, Sidney Frankel, \"Hairpin-line and hybrid hairpin-line/halfwave parallel-coupled-line filter\", IEEE Trans. Microwave Theory Tech, Vol. MTT-20, pp719 -728, November 1972.
[4] Rod
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Fabrication of Metallic Membrane Filters Using Laser Interference Lithography and Nano Imprinting Lithography\", Yonsei Univ., pp.8-10, 2006.
5. Sunghoon Cho, \"Patterning and Replication of Sub-micron Gratings using Holographic Lithography\", Yonsei Univ., pp.14-15, 2003.
6. Kim Sang-won , \"2-Dime
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반영할 수 있습니다.
둘째, 모듈러 건축 및 프리패브 공법(Pre-fabrication) 적용을 확대하고 있습니다. 기존의 현장 시공 방식은 많은 변수가 존재하여 공기 지연의 위험이 크지만, 사전 제작 방식을 도입하면 품질을 일정하게 유지하면서도 시공
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Fabrication Technology) - 60문제 30
가. 웨이퍼 제조 및 클리닝 (Wafer Manufacturing & Cleaning) 30
나. 산화 및 확산 (Oxidation & Diffusion) 30
다. 박막 증착 (Thin Film Deposition) 31
라. 리소그래피 (Lithography) 31
마. 식각 (Etching) 32
바. 이온 주입 및 열처리 (Ion Implant
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