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배향막 형성방법
배향막의 필요성
액정을 기판에 도입하는 것으로는 균일한 분자배열을 얻기
어렵기 때문에 배향막을 반드시 도입해야 한다.
배향막 형성방법
기존 방법: 러빙법, 경사 증착법, 고분자 연신법
새로운 방법 : 광배향법, 이
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모드
수직배향(vertical alignment: VA) 액정모드 1.물질의 상태
2.LCD의 동작원리
3.LCD의 기본구조
4.LCD 모드
5.비틀린 네마틱 (TN: twisted nematic)
6.수평전극 스위치
7.수직배향 (vertical alignment: VA)
8.LCD 시장추이
9.LCD 기술전망
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LCD 제조공정
(1) TFT(Thin Film Trasistor, 박막 트랜지스터) 공정
▲ LCD TFT 의 구조(단면도)
1. Polarizing Filter(편광필터)
들어오고 나가는 빛을 조절함
2. Glass Substrate(유리기판)
전극이 형성됨
3. Transparent Electrodes(투명전극)
LCD를 구동함
4. Alignment Layer(배
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로 TFT-LCD Module라고 한다.
※ LCD의 동작원리는
편광판:빛의 양과 방향 제어
TFT Glass Substrate :각컬러,Dot의액정의전압을조절
전극(Electrode):데이터표현을위해전압전달
배열층(Alignment Layer)
:액정분자를배향된방향으로정렬
투명전극(Trnasparent Elect
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LCD Panel은 TFT-Array와 Color Filter기판으로 구성되어 주변부에 Driver IC를 포함한 구동회로부가 설치되어야 한다. 구동회로는 다층 PCB형태를 취하며 회로부품은 박형화와 고밀도화를 위하여 Surface mounting Technology(SMT)기술을 이용한다. Driver IC는Tape Ca
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LCD에서 가장 주종을 이루는 방식이다.
단점으로는 장시간 정지화상 고정시의 잔상 문제와 타 방식에 비해 상대적으로 낮은 응답 속도이다.
VA
삼성의 VA 를 필두로Fujitsu(社)의 MVA 방식, IBM 산요사의 PVA 방식, 샤프의 ASV 방식 등이 있으며, ASV 방
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