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하는데 도움이 될 것이다.
SLS 기술은 마스크에 레이저를 쏘아 기판의 a-Si을 Poly-Si으로 만드는 방법이다. 레이저의 집중성 때문에 너무나도 작은 면적에 레이저가 집중되어 불균일한 Poly-Si 층이 형성되기 쉽다. 그러한 문제의 해법으로 레이저
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electronic - 이형수
TFT-LCD Reaserch Center, KyungHee Univ. - 장 진 LTPS 란?
LTPS 의 제조법
ELA Process & 특징
Poly-Si TFT-LCD의 응용
HTPS, LTPS 의 비교 및 특성
LTPS Process comparison
LTPS 관련 기기
LTPS 장점
LTPS의 기술 전망
Application & Product
※ References ※
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소자 제작 공정
SOI (Silicon-on–Insulator) 기판준비
보호 산화막 (screen oxide) 증착
채널층 불순물 주입
보호 산화막 제거
건식산화 (dry oxidation)
다결정실리콘 (poly-Si) 게이트 증착
다결정실리콘 (poly-Si) 게이트 이온주입
다결정실리콘 (poly-S
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poly-Si TFT-LCD
장 점
소비전력 小 / 가격 小
단 점
공정복잡(a-Si TFT-LCD, 대비 TFT제조가격 高 )
Size
≤ 14″
개발단계
연구개발
적용분야
Note PC
비 고
Flexible TFT-LCD plastic 기판을 사용하여 충격에 매우 강하고 경량.
a-Si TFT-LCD
장 점
공정복잡(a-Si TFT-
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폴리머를 yd제에 녹인액
크실렌, 지방족계탄화수소
(네가티브용)지방족계탄화수소
(포지티브용)유기아민계혼합액, 규산소다, 인산소다
(네가티브용) n-부틸아세테이트
(포지티브용) H2)
성분불명의 전용박리제
유기클로로실란, 헥사메틸디실
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폴리실리콘 결정화 형성 기술 비교
Poly-Si TFT-LCD의 응용‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥·‥‥‥‥‥‥16
a-Si와 LTPS의 비교 및 특성‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥16
(6-1) 비정질 실리콘 TFT LCD
(6-2)
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폴리우레탄에 뛰어난 유연성, 생체적합성, 형상기억성 등의 특성을 부여하기 위하여 poly(dimethyl siloxane) (PDMS) 성분을 포함하는 폴리우레탄 (PU-Si)을 합성하고 이들의 물성, 열적 특성, 형상기억 특성 및 상분리 구조 등을 알아보았다. 이를 위하
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Si 베이스 음극재 연평균 37% 성장 전망입니다.
이에 따라, 군산공장에 실리콘 음극재용 특수소재 공장 신설, 인접 부지 일부를 Nexeon에 매각하여 Nexeon의 실리콘 음극재 생산공장을 건설할 예정입니다 (반도체용 폴리실리콘 제조 시 생성되는 원
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