삼성전자 메모리사업부 공정기술 합격 자기소개서
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소개글

삼성전자 메모리사업부 공정기술 합격 자기소개서에 대한 보고서 자료입니다.

목차

1.삼성전자를 지원한 이유와 입사 후 회사에서 이루고 싶은 꿈을 기술하십시오. 700자 (영문작성 시 1400자) 이내
2.본인의 성장과정을 간략히 기술하되 현재의 자신에게 가장 큰 영향을 끼친 사건, 인물 등을 포함하여 기술하시기 바랍니다. (※작품속 가상인물도 가능) 1500자 (영문작성 시 3000자) 이내
3.최근 사회이슈 중 중요하다고 생각되는 한가지를 선택하고 이에 관한 자신의 견해를 기술해 주시기 바랍니다. 1000자 (영문작성 시 2000자) 이내
4.지원한 직무 관련 본인이 갖고 있는 전문지식/경험(심화전공, 프로젝트, 논문, 공모전 등)을 작성하고, 이를 바탕으로 본인이 지원 직무에 적합한 사유를 구체적으로 서술해 주시기 바랍니다. 1000자 (영문작성 시 2000자) 이내

본문내용

"초격차를 유지하는 Etching공정기술 엔지니어"

저는 Etching공정기술 엔지니어로서 공정데이터를 분석해 수율, 품질을 향상시키는 엔지니어가 되고 싶어 삼성전자에 지원하게 되었습니다. 반도체 시장이 고도화 되면서 저전력,고밀도의 반도체의 수요가 증가하고 있습니다. 그리고 3D 낸드플래시, FinFET등으로 식각공정이 미세화되고 NAND적층이 고도화됨에 따라 식각공정엔지니어의 역할이 커지고 있습니다. 저는 권오현 회장님의 ‘초격차’를 읽으면서 세계 1등을 차지하고 있으면서도 초격차를 유지하는 삼성에서 함께 일하고 싶다고 느꼈습니다.

키워드

  • 가격3,000
  • 페이지수4페이지
  • 등록일2023.02.15
  • 저작시기2023.2
  • 파일형식기타(docx)
  • 자료번호#1196404
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