신개념 리소그래피 AIPEL

소개글

신개념 리소그래피 AIPEL에 대한 보고서 자료입니다.

목차

1. AIPEL을 말로서 설명하는 한글문서

2. 발표를 위한 PPT 자료

본문내용

□ 과학기술부 21세기 프론티어 연구개발사업의 일환으로 발족한 테라급나노소자개발사업단(단장: 이조원(李兆遠)박사) 서울대 재료공학부의 김기범(金起範) 교수 연구팀은 나노기술 구현의 핵심기술중 하나인 양자점과 양자선을 형성할 수 있는 원천 기술을 확보하였다. 또한 김교수팀은 이 기술의 실용화를 위한 전자빔 묘화 장치 제작을 세계적인 전자현미경 제작 회사인 일본의 제올(JEOL)社와 공동으로 개발하기로 하였다.
□ 김기범교수 연구팀에 의하여 AIPEL (Atomic Image Projection Electron-beam Lithography)로 명명된 이 전자빔 리소그래피 기술은 고분해능 투과전자현미경을 이용하여 옹스트롬 (Å: 1Å = 10-10 m) 크기의 원자 이미지를 수십배에서 수백배의 영역에서 확대한 이미지를 얻고, 이를 이용하여 수 나노미터(nm: 1 nm = 10-9 m)에서 수십 나노미터 크기의 양자점 및 양자선을 기판위에 묘화하는 기술이다. 기존의 리소그래피 장치가 제작된 마스크의 이미지를 축소하여 묘화하는 것임에 비하여, 이 기술은 자연계에 존재하는 원자의 이미지를 그대로 이용한다는 점에서 그 차이점이 있다. 이러한 차이점에 의하여 기존의 리소그래피 장치에서는 얻을 수 없었던 극미세의 패턴 형성이 가능하게 되었다.

키워드

AIPEL,   신기술,   첨단기술,   기술정보,   발표,   첨단기술정보