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박막 증착 방법의 종류
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소개글

박막 증착 방법의 종류에 대한 보고서 자료입니다.

목차

-화학 기상 증착법(CVD)
저압 화학 기상 증착 (Low Pressure CVD, LPCVD)
플라즈마 향상 화학 기상 증착 (Plasma Enhanced CVD, PECVD)
대기압 화학 기상 증착 (Atmospheric Pressure CVD, APCVD)

-물리 기상 증착법(PVD)
금속의 증기를 사용하는 증발(evaporation) 증착법
물질에 물리적인 충격을 주는 방법인 Sputtering 증착법

-Atomic Layer Deposition(ALD)

본문내용

-화학 기상 증착법(CVD)
저압 화학 기상 증착 (Low Pressure CVD, LPCVD)
플라즈마 향상 화학 기상 증착 (Plasma Enhanced CVD, PECVD)
대기압 화학 기상 증착 (Atmospheric Pressure CVD, APCVD)
-물리 기상 증착법(PVD)
금속의 증기를 사용하는 증발(evaporation) 증착법
물질에 물리적인 충격을 주는 방법인 Sputtering 증착법
-Atomic Layer Deposition(ALD)

키워드

deposition,   박막,   증착,   thin film,   CVD,   PVD,   ALD

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  • 가격2,000원
  • 페이지수20페이지
  • 등록일2007.03.30
  • 저작시기2005.3
  • 파일형식파워포인트(ppt)
  • 자료번호#401556
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