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CVD 공정에 비해 계단 피복성이 우수하며 박막 두께조절 뿐만 아니라 다성분계 박막에 있어서 조성 조절이 용이하다는 장점이 있다. [7]
3. 결론
박막 증착하는 방법에는 크게 물리 기상 증착법과 화학 기상 증착법, 그리고 분자 빔 결정법(Molecul
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CVD chemical vapor deposition 화학시상증착 공정
화학기상증착 공정이란?
◉ 화학 반응을 수반하는 증착기술로서 부도체, 반도체, 그리고 도체 박막의 증착에 있어 모두 사용될 수 있는 기술
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CVD
화학기상성장법 [化學氣相成長法, chemical vapor deposit
IC(집적회로) 등의 제조공정에서 기판 위에 규소 등의 박막을 만드는 공업적 수법으로 약칭은 CVD이다. 화학물질을 포함하는 가스에 열이나 빛으로 에너지를 가하거나, 고주파로 플라스
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화학기상증착법(CVD)
지난 장은 물리학적인 바탕으로 박막을 증착하는 방법(이베포레이션과 스퍼터링)에 대한 것이었다. 이것들을 물리적인 프로세스라고 하는데 그 이유는 그러한 기술이 화학 반응과 관련이 없기 때문이다. 오히려 그 방
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화학기상성장법 [化學氣相成長法, chemical vapor deposition
IC(집적회로) 등의 제조공정에서 기판 위에 규소 등의 박막을 만드는 공업적 수법으로 약칭은 CVD이다. 화학물질을 포함하는 가스에 열이나 빛으로 에너지를 가하거나, 고주파로 플라스마
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