테스 공정개발 서류합격 자기소개서, 자소서 [최종합격]

소개글

테스 공정개발 서류합격 자기소개서, 자소서 [최종합격]에 대한 보고서 자료입니다.

목차

1.(주)테스에 지원한 지원동기와 입사 후 목표를 서술하시기 바랍니다. (1,000자)

2.학창시절 및 성장 과정에 대해 서술하시기 바랍니다. (1,000자)

3.창조적인 아이디어를 통해 문제를 개선했던 경험에 대해 서술하시기 바랍니다. (1,000자)

4.본인이 세웠던 가장 도전적인 일과 그것을 성취하기 위해 어떠한 노력을 했는지 서술하시기 바랍니다. (1,000자)

5.본인이 해당 직무에 대해 적합하다고 생각하는 이유를 서술하시기 바랍니다. (1,000자)

본문내용

정에서 저는 목표 달성을 위해 필요한 노력의 정도를 배웠습니다. 이후 전공 프로젝트, 교내 경진대회 등 다양한 활동을 통해, 처음 직면하는 어려운 상황에도 120%, 130%의 노력과 열정으로 성공적으로 대처할 수 있었습니다. TES에서 근무하게 된다면, 새로운 상황에도 열정적으로 노력하여 성과를 이뤄내는 인재가 되겠습니다.
5. 본인이 해당 직무에 대해 적합하다고 생각하는 이유를 서술하시기 바랍니다. (1,000자)
[논리적 분석: CVD 공정 연구 성과 달성]
학부 연구생으로 활동하며 CVD 방식을 이용한 \'단층 MoS2 박막 합성 최적화\' 연구에 참여했습니다. 이 과정에서 MoS2 박막 합성 실험과 OM 및 AFM 분석을 통해 공정 매개변수에 대한 광범위한 데이터를 수집했습니다. 연구팀은 4가지 주요 공정 매개변수를 조정하여 중요한 연구 성과를 달성했습니다.
첫 번째는 Ar 가스 유량 조절이었습니다. 유량 감소가 박막의 핵 생성 밀도 감소로 이어져 얇은 필름 형성에 도움이 될 것으로 예상했습니다. Ar 유량을 200sccm에서 100sccm으로 조절한 결과, 다층 박막을 이중층으로 줄일 수 있었습니다.
두 번째로 O2 유량을 조절했습니다. 산소가 박막을 더 얇게 만드는 데 기여한다는 연구를 바탕으로, Ar에 O2를 추가하여 깨끗한 단층 박막을 얻었습니다.
셋째로, 박막의 성장 시간을 조절했습니다. 기존 박막의 결정립 크기가 작아 소자 재료로 사용하기에 적합하지 않았기에, 성장 시간을 늘려 결정립 크기를 수 μm까지 확장했습니다. 더 긴 성장 시간은 결정립이 서로 겹치며 이중층을 형성하는 부작용도 발견하게 했습니다.
마지막으로, 전구체의 양을 조절했습니다. 단층 필름을 얻었지만, 연속적인 박막이 아니었던 문제를 해결하기 위해 전구체 양을 증가시켰습니다. 이로 인해 핵생성 밀도가 높아져 박막의 빈 공간을 채울 수 있었으며, 연속적인 필름을 형성했습니다. 결정립 크기가 다소 작아졌지만, 이는 소자의 재료로서 충분한 크기였습니다.
이 연구를 통해 \'공정 매개변수와 박막의 관계\'에 대한 논문을 교내 학술지에 게재했습니다. 제가 도출한 관계를 통해 최적의 박막을 양산할 수 있다는 점은 반도체 공정 개발에 큰 의미를 지닙니다. 이 경험은 논리적인 분석과 공정 최적화 능력을 갖춘 반도체 장비 엔지니어로서 제가 가지는 강점을 보여줍니다. TES에서도 이러한 역량을 활용하여 반도체 공정 장비 개발에 기여하고자 합니다.

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