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deposition
Good economy and process control
A great variety of chemical compositions
High step coverage
Selective deposition
AdvantageS of CVD
Classification of CVD
Thermal(conventional) CVD
- Operating Temp. : 800 1200 ℃
- Mass Products
- High Purity Thin Film
- influenced by various fac
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케미컬, 2005
[8] 김상훈, ‘Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition’, 전북대학교, 2008
참 고 사 이 트
[9] http://blog.naver.com/ycin6306/90021955004
[10] http://blog.naver.com/ungoni?Redirect=Log&logNo=140021821478
[11] http://blog.naver.com/evagrn?Redirect=Log&logNo=20003854419
[12] http://cafe.
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증착되는 것이다. 1. 증착 및 기상증착법의 정의
2. CVD (화학 기상 증착법, Chemical Vapor Deposition)
- 원 리 -
- 특 징 -
1) 장 점
2) 단 점
2. PVD(물리증착법. Physical Vapor Deposition)
1) PVD(Physical Vapor Deposition)
1) 이온 플레이팅(lon Plating)
2) 스퍼
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법(arc-discharge)
② 레이저 증착법(laser vaporization)
③ 플라즈마 화학기상증착법(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
④ 열화학 기상증착법(Thermal Chemical Vapor Deposition)
⑤ 기상합성법(Vapor phase growth)
4. 탄소나노튜브의 전계전자방출 특성
5.
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넣는 공정이다. PVD, CVD, ALD 중 어떤 것을 이용하겠는가? 생산단가와 공정시간을 염두해 둘 것!!
● PVD(Physical Vapor Deposition) : 물리적 기상 증착법
● CVD(Chemical Vapor Deposition) : 화학적 기상 증착법
● PVD vs CVD
● ALD(Atomic Layer Deposition)
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