positive and negative photoresist

본문내용

아이소플렌을 연결하여 현상액에 녹지 않는 중합체를 만들게 된다.
폴리 아이소프렌의 다중화
negitive Photoresist의 또 다른 반응은 첨가된 감응제가 노출된 빛으로부터 에너지를 받아 합성수지 물질의 이중 고리를 끊고, 서로 이웃하는 다른 탄소와 결합이 일어나게 하영 현상액에 불용성이 되는 성질로 변화시키는 것이다.
Cinmamic acid poly vinyl alcohol ester는 대표적인 negitive +photoresist용 고분자이다.
이 고분자는 polyvinyl alcohol 쇄에 cinnamic acid라고 하는 감광성부분이 ester 결합으로 연결된 것이다
이 고분자가 기능을 담당하는 심장부분은 cinmamic acid 부분이므로 cinmamic acid에 광이 조사된 경우 이처럼 cinmamic acid는 광의 조사에 의해 2개의 분자가 결합한 새로운 화합물로 변화한다. 이러한 성질은 polyvinyl alcohol에 결합한 cinmamic acid에서도 마찬가지다.
고분자에 결합한 cinmamic acid 부분이 2분자 결합하여 고분자가교가 일어나고 광조사된 부분만이 용제에 녹지 않으며 resist로서의 기능을 담당한다