나노급 반도체용

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나노급 반도체용 EUV Lithography는 분명 매력적인 new technology임에는 틀림없다. 하지만 이를 구현하기 위한 기반기술의 부제가 문제가 되지만 위에 기술하였던 Mask patterning, Source 등의 문제가 해결되고, 반도체 공정에 상용화가 된다면 더욱 혁신

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