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m은 회절광의 차수, 는 빛의 파장, 는 입사각이다.
본 실험에서는 파장 442nm의 He-Cd레이저와 파장 632.8nm의 He_Ne레이저를 사용하여 회절 실험을 진행하였다. 입사각을 두 광원 모두 40°로 고정한 후 제작된 광학 소자에 입사시켜서 나타나는 0차광
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회절격자를 형성시키는 방법, 홀로그램방법을 이용하는 등 기학광학을 이용하는 기술이 증가하고 있다. 가공방법으로는 Photolithography가 일반적이나 MEMS기술, Stamp기술, 금형 직가공 방법 등 다양한 가공 방법을 적용하고 있다. 이 중 일본 Omron
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회절격자를 형성시키는 방법, 홀로그램방법을 이용하는 등 기학광학을 이용하는 기술이 증가하고 있다. 가공방법으로는 Photolithography가 일반적이나 MEMS기술, Stamp기술, 금형 직가공 방법 등 다양한 가공 방법을 적용하고 있다. 이 중 일본 Omron
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