목차
1. 서론
2. 해외특허 출원정책의 변화
3. 미국특허 출원과 등록 동향
4. 출원기관 특성
5. 시사점
2. 해외특허 출원정책의 변화
3. 미국특허 출원과 등록 동향
4. 출원기관 특성
5. 시사점
본문내용
이전하고 있다. 이직분야는 기업 6,225명(91%), 연수 294명, 학술계 282명, 정부기관 102명 등으로 학술계로의 이직이 대부분인 한국과 큰 차이를 보이고 있다. 이직인력의 근무연한도 10년 이상 1,423명, 5-10년 2,157명, 3-5년 1,161명, 1-3년 1,434명, 1년 이하 728명으로 다양하고, 전공분야도 <표 6>처럼 정보통신과 반도체, 컴퓨터 등 대만의 주력 분야에 집중되어 있다.
<표 6> 공업기술연구원 이직인력의 전공 분포
분 야
수 량
분 야
수 량
분 야
수 량
정보통신
1,603 (24)
재료
573 (8)
항공우주
156 (2)
전자, 반도체
1,428 (21)
화공
495 (7)
생물의약
76 (1)
기계, 자동화
710 (10)
에너지, 환경
403 (6)
기타
481 (7)
광전자
662 (10)
측정
294 (4)
계
6,903 (100)
( )안은 %, 工業技術硏究院, "ITRI 年報 2000"
공업기술연구원의 선도적 역할이 상당히 큰 만큼, 이 연구원의 특허출원 동향도 예의 주시할 필요가 있다. 이 연구원은 2000년 한 해 동안 전년대비 39% 성장한 1,397건(국내 667건, 해외 730건)을 출원하고, 79% 성장한 960건(국내 461건, 해외 499건)을 등록하는 놀라운 성과를 달성하였다. <표 7>은 공업기술연구원의 특허활동을 나타낸 것이다. 전자, 컴퓨터뿐 아니라 미래 첨단산업으로 각광을 받고 있는 광전자공업에서 큰 성장세를 나타내고 있다. 이러한 성과는 가까운 장래에 이들 분야에서의 미국특허 증가와 대만기업의 경쟁력 향상으로 이어질 것이다.
<표 7> 공업기술연구원의 2000년도 특허 출원과 등록
구 분
출 원
등 록
국내
해외
계
국내
해외
계
전자공업
133
143
276
98
111
209
광전공업
130
170
300
48
40
88
컴퓨터, 통신
82
65
147
60
110
170
공업재료
57
51
108
23
17
40
화학공업
43
106
149
32
64
96
기계공업
91
151
242
96
131
227
에너지, 자원
80
22
102
61
13
74
생물의약
18
10
28
14
8
22
측 정
19
5
24
20
4
24
항공우주
9
6
15
5
1
6
환경보호, 안전
5
1
6
4
4
합 계
667
730
1,397
461
499
960
工業技術硏究院, "ITRI 年報 2000"
5. 시사점
대만은 일찍부터 미국특허의 중요성을 인식하고 적극적으로 출원활동을 전개해, 현재 우리와 상당한 격차를 보이며 앞서 나가도 있다. 가까운 시일 내에 이를 추격하기가 거의 불가능한 만큼, 지금이라도 종합적인 대책을 수립해 적극 추진해야 할 것이다. 이런 점에서 우리가 대만으로부터 얻을 수 있는 시사점에는 다음과 같은 것들이 있다.
첫째로, 주요 국가과학기술계획에 해외특허 출원 목표를 포함시키고 이를 강력히 추진하는 것이다. 둘째, 정부출연연구소들이 적극적으로 특허를 출원하고 이를 연구원 창업, 기술이전 등과 연계하는 것이다. 셋째, 기술능력이 있는 중소기업과 개인들의 해외특허 출원을 적극 장려하고 이를 지원하는 것이다. 넷째, 해외동포를 포함한 선진국 과학자들과의 네트워크 구축을 강화하고, 이를 현지특허 출원과 연계하는 것이다. 다섯째, 발명특허뿐 아니라 현지 영업활동에 필요한 디자인특허 등에도 관심을 기울이는 것이다. 여섯째, 국가 차원에서 특허정보를 수집, 분석, 서비스할 전문기관을 설립하는 것이다. 일곱째, 광전자공업 등 미래 첨단기술 분야에서의 대만 각 기관 연구동향과 미국, 중국 등에의 특허출원 동향을 예의 주시하고 필요한 대응책을 강구해야 한다는 것이다.
<표 6> 공업기술연구원 이직인력의 전공 분포
분 야
수 량
분 야
수 량
분 야
수 량
정보통신
1,603 (24)
재료
573 (8)
항공우주
156 (2)
전자, 반도체
1,428 (21)
화공
495 (7)
생물의약
76 (1)
기계, 자동화
710 (10)
에너지, 환경
403 (6)
기타
481 (7)
광전자
662 (10)
측정
294 (4)
계
6,903 (100)
( )안은 %, 工業技術硏究院, "ITRI 年報 2000"
공업기술연구원의 선도적 역할이 상당히 큰 만큼, 이 연구원의 특허출원 동향도 예의 주시할 필요가 있다. 이 연구원은 2000년 한 해 동안 전년대비 39% 성장한 1,397건(국내 667건, 해외 730건)을 출원하고, 79% 성장한 960건(국내 461건, 해외 499건)을 등록하는 놀라운 성과를 달성하였다. <표 7>은 공업기술연구원의 특허활동을 나타낸 것이다. 전자, 컴퓨터뿐 아니라 미래 첨단산업으로 각광을 받고 있는 광전자공업에서 큰 성장세를 나타내고 있다. 이러한 성과는 가까운 장래에 이들 분야에서의 미국특허 증가와 대만기업의 경쟁력 향상으로 이어질 것이다.
<표 7> 공업기술연구원의 2000년도 특허 출원과 등록
구 분
출 원
등 록
국내
해외
계
국내
해외
계
전자공업
133
143
276
98
111
209
광전공업
130
170
300
48
40
88
컴퓨터, 통신
82
65
147
60
110
170
공업재료
57
51
108
23
17
40
화학공업
43
106
149
32
64
96
기계공업
91
151
242
96
131
227
에너지, 자원
80
22
102
61
13
74
생물의약
18
10
28
14
8
22
측 정
19
5
24
20
4
24
항공우주
9
6
15
5
1
6
환경보호, 안전
5
1
6
4
4
합 계
667
730
1,397
461
499
960
工業技術硏究院, "ITRI 年報 2000"
5. 시사점
대만은 일찍부터 미국특허의 중요성을 인식하고 적극적으로 출원활동을 전개해, 현재 우리와 상당한 격차를 보이며 앞서 나가도 있다. 가까운 시일 내에 이를 추격하기가 거의 불가능한 만큼, 지금이라도 종합적인 대책을 수립해 적극 추진해야 할 것이다. 이런 점에서 우리가 대만으로부터 얻을 수 있는 시사점에는 다음과 같은 것들이 있다.
첫째로, 주요 국가과학기술계획에 해외특허 출원 목표를 포함시키고 이를 강력히 추진하는 것이다. 둘째, 정부출연연구소들이 적극적으로 특허를 출원하고 이를 연구원 창업, 기술이전 등과 연계하는 것이다. 셋째, 기술능력이 있는 중소기업과 개인들의 해외특허 출원을 적극 장려하고 이를 지원하는 것이다. 넷째, 해외동포를 포함한 선진국 과학자들과의 네트워크 구축을 강화하고, 이를 현지특허 출원과 연계하는 것이다. 다섯째, 발명특허뿐 아니라 현지 영업활동에 필요한 디자인특허 등에도 관심을 기울이는 것이다. 여섯째, 국가 차원에서 특허정보를 수집, 분석, 서비스할 전문기관을 설립하는 것이다. 일곱째, 광전자공업 등 미래 첨단기술 분야에서의 대만 각 기관 연구동향과 미국, 중국 등에의 특허출원 동향을 예의 주시하고 필요한 대응책을 강구해야 한다는 것이다.