본문내용
분야에서는 박막의 두께를 측정하게 된다.
n 그러나 스타일러스의 상태를 잘못 설정하게 될 경우에는 웨이퍼의 손상을 입거나 스타일러스가 상하게 되므로 적당하게 조절해야 한다.
용 도
:Si wafer 위에 입힌 막의 두께 측정,Stainless steel 위
입혀진 금의두께 측정 그 밖의 여러가지 박막의 두께 측정
응용사례
: hin Film의 두께를 측정하는 장비로 stylus를 이용, 물리적으로 두께를 구한다.
반도체 공정분야에서 많이 활용,
Carbon Nitride Film을 PECVD장비를 이용, 제조하고자 한다.
3.Materials & Apparatus
알파스텝과 막막처리된 시편
4.Methods
한개조가 동시에 측정
5.Results
6.Discussion
7.Reference
n 그러나 스타일러스의 상태를 잘못 설정하게 될 경우에는 웨이퍼의 손상을 입거나 스타일러스가 상하게 되므로 적당하게 조절해야 한다.
용 도
:Si wafer 위에 입힌 막의 두께 측정,Stainless steel 위
입혀진 금의두께 측정 그 밖의 여러가지 박막의 두께 측정
응용사례
: hin Film의 두께를 측정하는 장비로 stylus를 이용, 물리적으로 두께를 구한다.
반도체 공정분야에서 많이 활용,
Carbon Nitride Film을 PECVD장비를 이용, 제조하고자 한다.
3.Materials & Apparatus
알파스텝과 막막처리된 시편
4.Methods
한개조가 동시에 측정
5.Results
6.Discussion
7.Reference
소개글