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포토레지스트제거로 끝나는 일련의 공정이지만, 그 과정의 각 스텝은 모두 상호간에 영향을 주고받기 때문에 개별적으로 취급할 수 없다.
◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정,
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공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 2. 리소그래피(lithography)
1) 리소그래피란?
2) 리소그래피 기술의 개요
3) 리소그래피 장치의 분류
4) 리소그래피 방법
① Photoresist coat
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위한 정책과 제도를 설계하고 실행하는 것은 실질적인 어려움을 동반한다. 둘째, 다양한 사회적, 경제적 배경을 가진 개인과 집단 간의 이해관계를 조정하면서 롤스의 정의원칙을 실현하는 과정에서 발생할 수 있는 갈등을 어떻게 해결할 것
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모든 사람의 기본적인 자유와 기회를 보장하면서도 사회적 경제적 불평등을 최소화하기 위해 사회적으로 조치해야 함을 강조한다.
참고문헌
동서양고전의이해 한국방송통신대학교 출판문화원 목차
1, 핵심 내용 요약정리
2, 현대적 의
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공정
2. TFT 단위공정 & 개선기술
2.1 TFT 단위공정 소개
2.1.1 박막증착 공정
2.1.2 식각 공정
2.1.3 포토리소그래피 공정
2.1.4 이온주입 공정
2.2 TFT 단위공정 개선기술 소개
2.2.1 박막증착 공정
- 원자층증착법
- 플라즈마 강화
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