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리소그래피(lithography)
1) 리소그래피란?
2) 리소그래피 기술의 개요
3) 리소그래피 장치의 분류
4) 리소그래피 방법
① Photoresist coat (PR 코팅)
② Soft Bake(소프트 베이크)
③ Photo exposure(노광)
④ Develop(현상)
⑤ Hard bake(하드 베이크)
5) 향후의
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토리소그래피 과정에서 자주 행하는 공정인데, 크게 PR코팅 후의 소프트 베이킹, 노광 후의 post exposure baking, 현상 후의 하드 베이킹이 있다.
3.결론
지금까지 살펴본 포토리소그래피는 기계부품과 전자부품의 케미칼 에칭가공, 프린트기판 제
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토리소그래피 과정에서 자주 행하는 공정인데, 크게 PR코팅 후의 소프트 베이킹, 노광 후의 post exposure baking, 현상 후의 하드 베이킹이 있다.
3.결론
지금까지 살펴본 포토리소그래피는 기계부품과 전자부품의 케미칼 에칭가공, 프린트기판 제
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리소그래피
이온은 전자선보다 더 잘 초점을 맞출 수 있고, 산란도 심하지 않으므로 광감제에 더 잘 적응한다. 조 명의 밝기를 전자선의 경우 보다 수백분의 일로도 가능하다. 광감제의 두께가 2500Å 인 경우 에너지 는 H +이온은 14keV, Au +이온
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PR을 산화용액, 즉 Solvent를 사용하여 PR을 제거 하는 것이다. 이 과정 후에는 PR이 떨어져 나가고 결국에는 PR Pattern만 남게 되는 것이다. *포토 리소그래피 (Photo Lithography)
*포토 레지스트 (Photo Resist)
*마스크 어라이너 (Mask Aligner)
*코팅
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Lithography Technique" , Yonsei Univ. , 2004
7. Eugene Hecht, OPTICS, Addison-Wesley, 2001, pp.476-479. Ⅰ. 서 론
1. 연구 배경
2. 연구 목적
Ⅱ. 홀로그래픽 리소그래피 시스템을 이용한 나노 패턴 제작
1. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 시스템
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코팅, PR에 사용되는 UV 수지에 대한 지식을 쌓았습니다. 또한 국내 폴리머 제조 회사의 기술팀에 근무하며 PET, PETG, PPS, PLA 등의 고분자 수지 기술 지식을 쌓았습니다. 따라서 애경화학의 고객이 가진 기술적 문제를 초기에 파악하여, 고객의 사
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