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Lithography 란?
집적회로 제조과정에서 마스크(mask) 상의 회로 패턴을 웨이퍼(wafer)
위에 옮기를 공정
석판화 기술, 인쇄 기술 : litho(돌) + graphy(그림, 글자)
Clean Wafer
Wafer 표면의 유기물, 이온, 금속 불순물의
오염을 막기 위해 화학적으로 세
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1. 리소그래피(Lithography)의 정의
노광 기술(Lithography 기술)은 마스크(mask)상에 설계된 패턴을 웨이퍼 상에 구현하는 일종의 사진기술로서 마스크 형상을 웨이퍼에 전달하는 매체로 빔, 전자, 이온 등을 사용한다.
기판인 웨이퍼 위에 원하는
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결국에는 PR Pattern만 남게 되는 것이다. *포토 리소그래피 (Photo Lithography)
*포토 레지스트 (Photo Resist)
*마스크 어라이너 (Mask Aligner)
*코팅 (Coating)
*노광 (Exposure)
*현상 (Development)
*스퍼터링(Sputtering)
*리프트 오프(Lift-off)
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리소그래피공정
포토레지스트(photoresist) 패턴을 마스크로 하여 포토레지스트로 덮여 있지 않은 부분을 선택적으로 제거 1. 기술소개
-이방성
-등방성
1.2 습식 에칭 장치에 요구되는 성능과 문제점
2. 화학과의 연계성
2.1. SiC
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리소그래피의 연구 및 개발에 널리 쓰여지고 있을 뿐만 아니라 소자 생산의 중요한 하나의 도구가 되고 있다.
2. 이 론 / 공 정
(1) Lithography : 마스크상의 기하학적 패턴을 반도체 웨이퍼 표면을 덕고 있는 Photoresistor에 옮기는 과정. U.V ( 파장이
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공정을 이용하여 주기 500nm, 선폭 250nm의 패턴을 형성하였다. 이러한 패턴을 반응성 이온 식각 공정(RIE;Reactive Ion Etching process)과 UV 몰딩 공정을 사용하여 광 투과성 분광기를 제작 하였다. 이러한 공정은 전자빔 리소그래피(e-beam lithography)나 포
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저는 EUV 리소그래피 공정의 최적화를 위해 공정 변수(노광 강도, 레지스트 두께, 베이크 온도 등)를 조정하는 실험을 수행하였으며, 데이터 분석을 통해 공정 안정성을 극대화하는 최적의 변수를 도출하였습니다. 그 결과, 기존 공정보다 20%
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리소그래피 공정을 설명한다고 생각하고 설명해보세요.
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본인의 전공 활용을 어떤 방식으로 할것인지?
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반도체가 기억을 저장하는 원리에 대해서 본인의 전공에 빗대어 설명해주세요.
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자신이 했던 업무중 문제해결 경험을 상세히 설명
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공정 이라는 과목을 통해 포토리소그래피, 에칭, 박막성장 등을 배우면서 반도체공정의 기초를 익히고 그 응용분야에 대해 흥미롭게 배웠습니다. 그러나 화학공학을 전공한 제게 반도체공정 분야에 대한 진학은 큰 도전이었고 관련 전공자들
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공정 및 집적 기술 발전
EUV 리소그래피, 원자층 증착, 3D 집적 기술 등의 연구를 통해 차세대 반도체 공정 기술을 향상시킬 수 있습니다.
반도체 소자의 성능을 극대화하고 신뢰성을 높이는 새로운 공정 기법을 개발할 수 있습니다.
3) 뉴로모픽
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공정방법에 대해서 배웠습니다. 또한 발표 및 토론수업을 통하여 미래의 기술과 탄소튜브를 이용한 나노센서에 대해서 발표를 하였습니다. 과목을 수강하면서 웨이퍼의 공정과정 및 Lithography 기술에 대해서 공부를 하였습니다. 그 결과 저에
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