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표면과 PR간의 접착력 향상 → HMDS 사용 반도체 (집적회로) 공정 Lithography 개요 Lithography Lithography 과정 Clean Wafer PhotoResist coating PhotoResist Bake Mask 제작 Mask Alignment Expose Develop Etching Light Source Optical lithography Non-Optical Lithography
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  • 등록일 2008.01.18
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2.반도체                  3.N형 반도체와 P형 반도체 4.다이오드의 특성 곡선 5.제너다이오드에 의한 전압안정화 6.lithography기술
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  • 등록일 2010.03.04
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리소그래피(X-ray Lithography) 집적회로를 만들 때 중요한 부분에 사진기술이 사용된다. 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 부품의 패턴을 빛으로 촬영하고 그것이 감광된 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학처리나 확산처리를 하는데, 이를 총칭해 리
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  • 등록일 2015.03.12
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< Lithography > 리소그래피 (Lithography) ------------------------ 1. 개요 및 응용분야 미세 가공 기술 개발의 선두에 있는 DRAM 기술에 있어서 리소그래피 기술은 항상 전체 기술의 개발을 좌우하는 중요한 요인이 되어 왔다. 현재 리소그래피 기술에
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  • 등록일 2004.10.27
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2.반도체                  3.N형 반도체와 P형 반도체 4.다이오드의 특성 곡선 5.제너다이오드에 의한 전압안정화 6.lithography기술
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논문 1건

리소그래피(e-beam lithography)나 포토리소그래피(photo-lithography) 방식에 비해 시스템구성이 간단한 장점이 있다. 반응성 이온 식각공정을 위한 패턴 형상, 즉, 최저면에서 실리콘 웨이퍼의 면이 드러나고, 최저면과 최고면의 대조비가 큰 형상을
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  • 발행일 2010.03.05
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