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2.반도체
3.N형 반도체와 P형 반도체
4.다이오드의 특성 곡선
5.제너다이오드에 의한 전압안정화
6.lithography기술
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3.N형 반도체와 P형 반도체
4.다이오드의 특성 곡선
5.제너다이오드에 의한 전압안정화
6.lithography기술
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리소그래피의 연구 및 개발에 널리 쓰여지고 있을 뿐만 아니라 소자 생산의 중요한 하나의 도구가 되고 있다.
2. 이 론 / 공 정
(1) Lithography : 마스크상의 기하학적 패턴을 반도체 웨이퍼 표면을 덕고 있는 Photoresistor에 옮기는 과정. U.V ( 파장이
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Lithography에 이용
6. 생물학 및 의학분야에 이용
7. 근접장 주사현미경에 이용
8. 고속 광 마이크로모터에 이용
9. 레이저 인쇄기술에 이용
10. 미립자 특성연구에 이용
Ⅳ. 레이저광의 도플러효과
1. 원자의 공진 및 흡수 밀도함수
2. 레이
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기술과 신소재, 기술의 흐름을 잡을 수 있는 연구 인력으로 성장해 나갈 것이다.
● 출처 및 참고
1. Principles of Semiconductor Devices(Dimitrijev, Oxford, 2005)
2. 한국과학기술정보연구원, 나노급 반도체용 EUV 리소그래피
3. http://www.semipark <기술동향>,
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