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포토리소그래피와 나노임프린트
- 리소그래피를 결합한 리소그래피 방법
2.2.4 이온주입 공정
- 플라즈마 이온주입기술
- 플라즈마 도핑을 이용한 이온주입기술
- 마스크를 이용한 이온주입기술
3. TFT 응용 및 최근 기술 동향
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기술의 이해
2.1. 나노기술의 정의 및 특성
2.2. 나노기술의 유래
2.3. 나노기술의 미래 전망
3. 각국의 나노기술 연구 동향
3.1. 미국
3.2. 일본
3.3. 유럽
4. 국내 나노기술 정책과 연구개발 현황
4-1. 나노기술 정책
4-2. 국내 나노기
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리소그래피의 연구 및 개발에 널리 쓰여지고 있을 뿐만 아니라 소자 생산의 중요한 하나의 도구가 되고 있다.
2. 이 론 / 공 정
(1) Lithography : 마스크상의 기하학적 패턴을 반도체 웨이퍼 표면을 덕고 있는 Photoresistor에 옮기는 과정. U.V ( 파장이
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동향」[IITA] 정보통신연구진흥원 학술정보 - 주간기술동향 983호
- 대한기계학회, [업계동정]LG전자, POSCO, 대우종합기계 등 , 기계저널 제43권 제5호, 2003. 5
- 황호진, LG 전자 교육훈련 혁신 현황 , 대한전자공학회 세미나(2000년대를 대비한 전자공
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이해가 되지 않고선 이용방안에 대해서 생각나지 않게되어서 그 개념에 대해서 더욱 더 관심을 갖게된거 같아요. 그런 의미에서 이번 레포트는 유비쿼터스산업의 핵심기술에 대해서, 그리고 정보를 어떻게 관리하고 선택하는지에 대해 배운
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