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ReRAM
2. 비휘발성 메모리 시장 전망
2-1. 대기업 참여 현황
II. 본 론
1. NiO 물질을 이용한 ReRAM 특성 구현
2. 실험 방법
1-1. R.F Magnetron Reactive Sputtering Deposition
1-2. 전기적 특성 평가 (I-V)
3. 실험 결과 및 분석
III. 결 론
IV. 참고문헌
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측정 방법
2.4 실험 장치 및 방법
2.4.1 측정 원리
2.4.2 측정 장치의 설계도면
2.4.3 실험에 필요한 부품 및 장비
2.4.4 설계 조건
2.4.5 실험 방법
2.4.6 실험 결과
제 3 장 결 론
3.1 정전기 일반론
3.2
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6_Flexible Display (고려대학교 권재홍, 정진
욱, 이영훈, 이원희) 1. 서 론
2. 이 론
1) PDMS (Polydimethylsiloxane)
2) Nano Transfer Printing
3) Decal Tranfer Lithography (DTL)
4) ITO (Indium Tin Oxide)
3. 실험방법
4. 결과 및 고찰
5. 결 론
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두께에 대한 영향 및 최적화
4. 노광시간(Exposure Time)의 영향 및 최적화
5. 실험 결과 및 고찰
Ⅲ. 실리콘 주형의 제작과 분광기의 제작
1. 반응성 이온 식각 공정(RIE;Reactiva Ion Etching Process)
2. UV 몰딩(UV-molding) 공정을 이용한 분광기의 제작
3.
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3장 실험재료 및 방법 11
제 1절 실험재료 11
Ⅰ. 시료 11
제 2절 실험방법 11
Ⅰ. 반응조건 설정 11
Ⅱ. Meat flavor의 제조 11
Ⅲ. Meat broth의 제조 12
Ⅳ. 성분분석 12
1. 수분 측정 12
2. 조지방 측정 12
3. 조단백 측정 12
제 4장
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