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[신소재기초실험]산화 공정 - Oxidation Process
목차
1. 실험 목적
2. 실험 이론 및 원리
3. 실험 방법
4. 실험 결과
5. 토의 사항
1. 실험 목적
산화 공정은 재료의 표면에 산화막을 형성하여 기계적 및 화학적 특성을 향상시키기 위
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실험하여 전공에 대한 관심도 더욱 커졌다.
-참고문헌 : * 신소재기초실험 OXIDATION(산화공정) 프린트
* 신소재기초실험 Ⅰ(Text Book) , 국민대학교 공과대학 신소 재공학부, P. 21~ P. 33 제목 : 산화 공정 (Oxidation)
목적
이론 : 딜-그로브의 열 산
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전자 공학 - 이정한
반도체 (공정 및 측정) - 전자자료사 편집부
박막 프로세스의 기초 - 금원찬 외 공저
박막공학의 기초 - 최시영 외 공저
재료과학 - Barrett 외 1. 실험 제목
2. 실험 목적
3. 실험 방법
4. 실험 이론
5. 참고 문헌
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[신소재 기초실험] 산화공정
목차
1. 산화공정의 개요
2. 산화 메커니즘
3. 산화공정의 종류
4. 산화막 특성 분석
5. 산화공정의 응용
6. 실험 방법 및 결과 분석
[신소재 기초실험] 산화공정
1. 산화공정의 개요
산화공정
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[신소재기초실험]MOS 소자 형성 및 C-V 특성 평가
목차
1. 실험 목적
2. 실험 이론 및 원리
1) MOS(Metal-Oxide-Semiconductor) 소자
2) Oxidation 공정 Thermal Oxidation
3) 사진식각공정
4) 기상증착법(Vapor Deposition)
5) Sputtering (증착도금, 진공증착)
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