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제작하기 힘든 이유를 설명하시오.
▶ Homogeneous하게 박막을 제작할 수 있는 방법의 이름을 모두 열거 하시오.
▶ 분자성 박막과 일반적인 성장박막은 어떤 차이점이 있습니까?
▶ SAM 박막의 제작법의 원리를 설명하시오.
▶ LB법에 있어서
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원리 및 활용' 김기준, 이종선, 성기천, 양재웅, 이후설 共著, 대영사, 1997
2) '레이저 기초원리 와 응용'송순달 著, 청문각, 1999
3) '현대물리학' Arthur Beiser , 교보문고 , 1996
4) 두산 세계 대백과 사전
5) IHI ENGINEERING REVIEW, vol.28, 123.
6) 後藤 외, 엑시
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광학, 열, 기계, 촉매 화학적 물성을 향상시킬 수 있는 기술 개발
'02∼'06
(5년이내)
후보
15.EUV/X선 광리소그라피 공정기술
EUV광원, soft X-ray 광원을 이용한 수차 최소화 방법론 개발, 위상차 마스크제작, X-선 박막 흡수체 형성, 결함측정 등의 기
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(FC-PH : Fiber channel-physical interface)의 특징
Ⅵ. 광탄성
1. 광탄성 효과
2. 편광
Ⅶ. 광자결정
Ⅷ. 광전효과
Ⅸ. 광로관
1. 반사형 광로관 제작
2. 광섬유형 광로관 제작
Ⅹ. 광속
?. 광도법
1. 원리 및 적용범위
2. 개요
참고문헌
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. 우리 조도 증착 시킬시 증착 전류의 미세한 조절이 어려워 기판을 태워먹기도 하였다. 증착 시 미세한 조절이 필요하고 실험 전 각 기기의 사용 방법을 충분히 숙지하여 실험에 임하면 좋은 결과가 있을 거라 생각된다.
7.박막의 응용
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원리
3.1.2 냉음극 형광램프의 전기적 및 광학적 특성
3.2 발광 다이오드(LED)
3.2.1 LED 구조 및 원리
3.2.2 고휘도 LED의 전기적 및 광학적 특성
3.2.3 고휘도 LED 응용 및 시장
3.3 평판형 형광램프(FFL)
3.3.1 평판형 형광램프의
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리소그래피 시스템을 이용한 나노 패턴 제작
1. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 시스템 원리
2. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 시스템 구성
3. 감광제(Photoresist) 도포 조건의 도포 두께에 대한 영향 및 최적화
4. 노광시
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법의 하나로 백라이트를 점등하는 기술 등은 액정의 구동과 연계되어 있기 때문에 백라이트 업체에서 접근하는 것보다 패널 업체와 연계하는 것이 효율적이라고 하겠다. 또한 새로운 광원인 EEFL, FFL, LED, CNT 개발은 많은 부분에서 램프 업체와
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