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반도체응용을 위한원천기술에 대한연구는 실리콘기반의 기술과는다르게 모든국가가 같은 출발점에서 시작을 하고 있다. 현재 우리나라는 그래핀성장기술이나 응용소자부분에서 선두그룹에 속해 있으므로 차근히 원천기술을 확보해 나간다
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이때는
둘다 안되고 InGaAs나 InP가 사용되어야 하지 않을까 생각된다. ●반도체에 실리콘이 많이 사용되는 이유
●실리콘
●게르마늄과 실리콘의 비교
●실리콘의 화학적 성질
●실리콘의 장점과 단점
●반도체 재료의 종류
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반도체 산화물을 선택할 때 가장 먼저 고려해야 할 부분은 전도띠 에너지 값이다. 반도체의 전도띠 에너지는 염료의 LUMO 보다 낮아야 한다. 현재 가장 많이 사용되는 산화물은 TiO2로서 루테늄계 염료 (상업적인 이름으로 N3, N719가 가장 많이 사
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반도체 기판으로 사용되는 재료와 많이 쓰이는 이유를 설명하시오.
2.반도체 산업에서 실리콘 웨이퍼는 단결정을 사용한다. 단결정을 사용하는 이유는 무엇인가?
3.반도체 제조과정에 관하여 간단히 설명하시오.
4.반도체의 특성에 대해서 설
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. Si의 산화를 고온에서 하는 이유는 상온에서는 Si 및 산소분자 모두 자연 산화층을 통하여 확산할 수 있을 만큼 활동적이지 못하기 때문이다. 따라서 1. 실험 목적
2. 이론적 배경
3. 실험 과정
4. 실험 결과
5. 고찰 및 창의 설계
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