|
전자빔 가공 개요 및 적용사례 (Electron-Beam Processing)
1. 전자빔 가공의 개념
╋━━━━━━━━━━─────────
❖ 전자빔은 전자총에서 방출되는 전자빔을 물체에 쬐어서 금속 ·보석류 그 밖의 재료를 가공하는 가공법
|
|
|
Principle
- 전자빔을 가공물에 투사
- 전자들이 가공물과 충돌하면서 비탄성 충돌로인한 손실발생
- 가공물에 침투한 전자들의 에너지로 인한 다양한 현상발생 Principles
Removal Process
Removal Problem
Type of EFF
|
|
|
전자빔의 두께가 매우 가느다란 선 모양이 아닌 어느 정도의 두께를 지닌 곡선 형태라 좌표를 맞추는 과정에서 오차가 발생하였지만 예상된 결과를 얻을 수 있었다. 부수적으로 전자빔의 세기는 전압 에 영향을 받는다는 것 또한 관찰 하였다
|
|
|
전자 현미경을 이용한 전자빔 리소그래피 장치의 구현, 한국물리학회
▷ 김종문 글, 임혜경 그림(2011), 현미경 속 작은 세상의 비밀, 예림당
▷ 송우섭 외 4명(2011), 공초점 현미경의 발전과 응용된 다양한 생물 연구 소개, 한국광학회
▷ 정수진
|
|
|
전자빔에 노출되는 표면적이 커져서 이미지가 밝게 나온다. 이 같은 내용은 다음 두 그림에서 볼 수 있다.
위 두 그림은 전복 껍데기의 표면을 고전압에서 촬영한 사진들이다. 좌측은 저배율이고 우측은 고배율의 사진이다. 이 사진에서 보면
|
|
 |
전자 장치를 말하고, 발광형 표시장치와 수광형 표시장치로 분류할 수 있다. 그 중 현재 많은 가정에서 사용되는 CRT, LCD, PDP이다. CRT는 음극선관을 말하며 일명 브라운관이라고도 하는데, 전기신호를 전자빔으로 형광면에 쏘아 광학상으로 변
|
|
|
전자빔 리소그래피(e-beam lithography)나 포토리소그래피(photo-lithography) 방식에 비해 시스템구성이 간단한 장점이 있다.
반응성 이온 식각공정을 위한 패턴 형상, 즉, 최저면에서 실리콘 웨이퍼의 면이 드러나고, 최저면과 최고면의 대조비가 큰
|
|
|
전송한계
[그림 2] Diversity 기법
[그림 3] Spatial Multiplexing 기법
[그림 4] 다중 채널 전송
[그림 5] Unlink Multi-User MIMO
[그림 6] Downlink Multi-User MIMO
[그림 7] Beamforming기술을 이용한 송수신기의 통신
[그림 8] 충돌 회피 빔성형
|
|
 |
전자빔 리소그래피 기술을 이용한 게이트 제작
- 저온 전기 측정을 통한 양자점 트랜지스터 특성 분석
○ 연구 기대 효과
본 연구를 통해 고성능 양자점 트랜지스터 개발을 통한 전자 소자 기술 발전 및 양자 컴퓨팅 등 새로운 응용 분야 개척
|
|
 |
빔포밍 기술에 대해 알고 있나요? (전기/전자/제어)
6. WS와 WAS의 차이점을 설명해보세요. (전기/전자/제어)
7. 큐와 스택의 차이점에 대해 설명해보시오. (전기/전자/제어)
8. 국책과제 관련 문서를 작성해본 경험이 있나요? (일반 사무 행정)
9.
|
|
 |
전자전기컴퓨터학부 행정실 근로 2학기, OO대학교 중앙도서관 근로 1달, 정보전산원 위탁 OO교원정보화연수 실습조교 2주씩 총 5차례, 교수학습센터 주최 강의자료 제작을 위한 교수워크숍 실습도우미 2일 또는 4일 과정으로 총 3차례, 한국기업
|
|
메뉴펼치기
