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McGRAW.hill higher Education, 2009, pp145-146.
위키백과, 검색어|노튼의 정리,
http://ko.wikipedia.org/wiki/%EB%85%B8%ED%8A%BC%EC%9D%98_%EC%A0%95%EB%A6%AC 1. 목적
2. 관련이론
2.1 노튼의 정리
2.2 테브닌 등가회로와 노튼 등가회로의 관계
3. 이론값
4. 참고문헌
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회로로 표현하는 방법으로 테브난의 정
리 및 노튼의 정리를 이해하고, 실험을 통해 확인한다. (2) 전원이 갖고 있는 내부 저항의 영향이 실험 결과에 미치는 영향을 이해하고 실험을 통해 확인한다. 2. 실험 이론
(1) 테브난의 정리
그림 1(a)
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회로와 그 등가회로에서의 부하전류의 비교
회로에 사용한 저항의 측정값: 저항 1 , 저항 2
RL ( )
원래회로 IL (mA)
IN (mA)
RN ( )
등가회로 IL (mA)
계산
측정
계산
측정
2,200
15,000
II. 토의 사항 1. 목적
2. 이론
(1) Thevenin의 정리
(2) Norton의 정리
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회로를 완성하고, 등가회로 에 걸리는 전류 의 측정값과 계산값을 구하고 그 오차를 구하여 <표2>에 기록하라.
<표2>
이론값
=100Ω
3.4104
=220Ω
2.8483
=240Ω
2.7722
=4.7㏀
0.3982
(9) <표1>과 <표2>를 비교하여 Norton 정리가 성립함을 증
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정리는 디지털공학에서 필수적인 역할을 합니다. 이와 같은 법칙을 통해 복잡한 논리식을 단순화하고, 효율적인 논리 회로를 설계할 수 있는 기초를 제공합니다. 그러나 이런 법칙의 적용은 단순히 이론적 이해를 넘어 실제 설계와 최적화 과
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회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 2. 리소그래피(lithography)
1) 리소그래피란?
2) 리소그래피 기술의 개요
3) 리소그래피 장치의 분류
4)
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개별적으로 취급할 수 없다.
◎ 참고문헌 : 반도체 제조장치 입문, 전전 화부, 성안당
집적회로 설계를 위한 반도체 소자 및 공정, 정항근, 홍릉과학
실리콘 공정기술 입문, 김종성, 동영 출판사
박막공학의 기초, 최시영, 일진사 없음
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2/exp9/exp9.html
http://user.chollian.net/~jackcom/study/hw/diode.htm
http://www.eungok.hs.kr/99/5/sil4.htm
http://asan3.sch.ac.kr/~bslee/lecture/전자회로1
http://heebok.kongju.ac.kr/experiment/electron/em12.html Ⅰ.실험 제목
Ⅱ.실험 목적
Ⅲ. 기본이론
Ⅳ. 실험 방법
참고문헌
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이론적으로 구한 및 과 “(2) 노턴의 등가회로”에서 측정한 값을 비교 하고, [%]오차를 구하라.
의 [%]오차 :
의 [%]오차 :
이번 실험은 테브난과 노턴의 정리를 실험적으로 확인 해보는 것이었다. 실험 결과에서도 알 수 있듯이 테브난와 노턴
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새 IC칩으로 하지 않는 이상은 이런 문제가 해결되기 힘들지 않겠나 생각된다.
◎ 참고문헌
디지털 논리와 컴퓨터 설계 (M.Morris Mano저) 1.목적
2.이론
3.간단한문제
4.실험기기 및 부품
5.실험방법
6.이론치및예상결과
7.참고문헌
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