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사이즈여서 여과가 되지 않을수도 있어서 Evaporator를 사용해준다고 조교님께서 말씀해주셨다. 우리가 조사한 SiO2와 우리가 합성한 SiO2 모두 2θ=22° 정도에서의 피크값을 갖는다. 우리조는 실험이 잘 되었지만 비이커를 이용해서 12시간을 교반
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안 50℃로 교반한다.(oil bath 사용)
⑤ 교반이 끝난 혼합물을 원심분리기를 이용해 물로 충분히 washing한다.
⑥ washing이 끝난 sample을 100℃ 에서 건조시킨 뒤, XRD 분석을 한다.
7. 참고문헌
[1]. http://terms.naver.com/entry.nhn?docId=1063569&cid=40942&categoryId=32251
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SiO2
산소에 습기가 섞여 있는 경우로, 건식산화보다 oxidation rate가 더 빠르다.
0.5㎛정도의 두꺼운 oxide 층을 제공한다.
마지막으로 SiO2의 합성법을 정리하여 표로 나타내었다. SiO2 박막합성법
산화공정(Oxidation)
산화막 형성온도 영역
산
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합성된 sol을 비커에 부은 후 drying oven에서 건조시켰다.
3. RESULT & DISCUSSION
3.1 Raw data
건조 후 생성물의 무게 : 7.642g
3.2 Results
반응식에서 TEOS와 SiO2는 같은 몰수로 생성된다는 것을 알 수 있다.
따라서 TEOS가 0.134mol 사용되었으므로 이론적 수득량
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합성용액을 급격히 교반하는 상태에서 물을 한 방울씩 넣어준다.
(d) 5분후 HCl을 조금씩 넣어 주고 공기가 들어가지 않도록 잘 밀봉한다.
(e) 온도 제어기로 반응온도를 50 로 일정하게 유지하며 1.5시간동안 반응시킨다.
(f) 반응이 끝난 후 합성
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