|
반도체 공정 및 장비산업의 기술 동향 ]
Ⅰ. 시작하며
Ⅱ. 반도체소자의 제조공정(그림자료첨부)
Ⅲ. 반도체 공정 및 장비산업의 기술 동향
Ⅳ. 반도체관련기술의 특허출원동향
Ⅴ. 맺으며
1.mask
2. 레티클(reticle)
3. phase shift mask를 활용
|
|
|
공정을 말한다.
☞ 반도체공정중 매우 중요한 공정의 하나이며 특히 진동에 매우 민감하다.
▣ 제9단계 : 현상공정 (Develop & Bake)
일반 사진 현상과 동일하다. 현상액을 웨이퍼에 뿌리면 웨이퍼는 노광과정에서 빛을 받은 부분과 받지 않는 부
|
|
|
반도체와 LCD의 호황에 힘입어 빠른 성장을 했던 것이다. 가전업체에서 탈피하여 반도체, 휴대폰, LCD 등 끊임 없이 차세대 주력제품에 적기에 과감히 투자하여 성장을 이어오고 있다.
이 같은 지속적인 성장은 끊임 없이 새로운 성장엔진을 찾
|
|
|
반도체는 무엇으로 만드는가?
☞원재료
-웨이퍼(wafer)
-마스크(mask)
-리드프레임(lead frame)
☞설비
-설계설비, 공장설비 그리고 조립/검사설비
☞유틸리티
-공기, 질소, 진공, 초 순수, 전기 등 제반 공정에 필요한 요소들을 통
|
|
|
마스크 롬(Mask ROM)
2) EPROM(Erasable Programmable ROM)
3) EEPROM(Electrical Erasabel Programmable ROM)
4) 플래시 메모리(FLASH Memory)
Ⅳ. 메모리 관련 용어
1. DMA (Direct Memory Access) ; 메모리 직접 참조
2. I/O (input/output) ; 입출력
3. task/multitasking ; 태스크/멀티태스
|
|
 |
2025년 SKC솔믹스_반도체공정.설비(포토마스크, 블랭크마스크)_최신 자기소개서
1.지원 동기
2.성격 장단점
3.생활신조 및 가치관
4.입사 후 포부
1.지원 동기
반도체 산업은 현대 기술의 근본적인 기초를 형성하며, 그 중에서도 포토마
|
|
|
공정 및 설비 분야는 기술 발전을 이끌어가는 핵심 요소로 자리잡고 있습니다. SKC솔믹스가 반도체 공정과 설비에서 뛰어난 기술력을 바탕으로 업계 선두주자로 자리매김하고 있는 점에 깊이 매료되었습니다. 특히 포토 공정과 블랭크 마스크
|
|
 |
SKC솔믹스에서 제 경력을 쌓아가는 과정에서 리더십을 개발하고, 팀의 성과에 기여하는 한편, 개인의 성장도 이루어 나가겠습니다. 장기적으로는 회사와 함께 성장하며, 반도체 산업 내에서 영향력을 미치는 전문가가 되고자 합니다. 전문성
|
|
 |
최신 기술 및 시장 동향을 습득하여 전문성을 높이겠습니다. 이러한 노력들이 끊임없이 이어질 때, 개인의 성장과 더불어 SKC솔믹스의 발전에 이바지할 수 있을 것이라 확신합니다. 세운 이 목표를 통해 SKC솔믹스에서 포토마스크 및 블랭크마
|
|
|
반도체 산업의 핵심 요소인 마스크 기술이 얼마나 중요한지 잘 알고 있습니다. Blank Mask는 반도체 제조 공정에서 결정적인 역할을 하며, 높은 품질과 정밀도가 요구됩니다. 이러한 기술이 진화하고 발전함에 따라, 이 팀의 일원이 되어 기여할
|
|
메뉴펼치기
