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투영시키는 광학계가 저대역 필터(low-pass filter)로 작용하기 때문에 웨이퍼에 맺히는 상은 원래의 모양에서 왜곡된 형태가 나타난다. 이러한 방법은 반도체 칩에 집적된 소자 및 연결선의 최소선 폭이 작아짐에 따라 웨이퍼에 형성되는 패턴의
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리소 그래피 제작에서 잉크가 묻혀지는 곳은?
① 물이 칠해진 부분
② 리소 크레용이 칠해진 부분
③ 물과 리소크레용이 칠해진 부분
④ 아라비아 고무액을 바른 부분
⑤ 리소크레용을 칠하지 않은 부분
20. 다음 내용이 나타내는 색의 유형은?
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리소그래피(X-ray Lithography)
집적회로를 만들 때 중요한 부분에 사진기술이 사용된다.
실리콘칩 표면에 만들고자 하는 부품의 패턴을 빛으로 촬영하고 그것이 감광된 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학처리나 확산처리를 하는데, 이를 총칭해 리
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lithography
- Double Pattering Tech.
- Double exposure Tech.
- Self-Aligned double patterning Tech.
- Immersion Tech.
- X-ray Tech.
- Nano-imprint Tech.
- EUV Tech.
◈ 각 타입에 대한 공정 Table과 그에 대한 세부 설명
1. Double patterning and exposure
『<
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EUV 리소그래피 장비 유지보수 및 최적화 업무를 수행하며 보다 효율적이고 혁신적인 기술 지원을 제공하는 데 기여하고 싶습니다. 특히, 최신 반도체 공정 기술을 연구하며 ASML코리아의 경쟁력을 강화하는 방향으로 실질적인 기여를 하고 싶
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