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투영시키는 광학계가 저대역 필터(low-pass filter)로 작용하기 때문에 웨이퍼에 맺히는 상은 원래의 모양에서 왜곡된 형태가 나타난다. 이러한 방법은 반도체 칩에 집적된 소자 및 연결선의 최소선 폭이 작아짐에 따라 웨이퍼에 형성되는 패턴의
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리소그래피 종류
1.Eletron Beam Lithography (전자빔리소그라피)
E-beamLithograph는 반도체 웨이퍼 위에 전자에 예민한 성질을 가지고 있는 레지스트 (resist)를 얇게 바른 후, 원하는 패턴을 마스크 없이 직접 전자빔를 가하여 그림을 그리거나 글씨를
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리소그래피 종류
1.Eletron Beam Lithography (전자빔리소그라피)
E-beamLithograph는 반도체 웨이퍼 위에 전자에 예민한 성질을 가지고 있는 레지스트 (resist)를 얇게 바른 후, 원하는 패턴을 마스크 없이 직접 전자빔를 가하여 그림을 그리거나 글씨를
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전자 현미경을 이용한 전자빔 리소그래피 장치의 구현, 한국물리학회
▷ 김종문 글, 임혜경 그림(2011), 현미경 속 작은 세상의 비밀, 예림당
▷ 송우섭 외 4명(2011), 공초점 현미경의 발전과 응용된 다양한 생물 연구 소개, 한국광학회
▷ 정수진
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전자빔의 궤도 반경 및 전자빔의 에너지를 작게한 리소그래피 전용의 소형
싱크로트론이 완성됨 X-ray Lithography
x-ray lithography의 기본원리
x-ray 리소그래피 주요특징
마스크의 투과도
회절효과
싱크로트론 방사광
장점
단점
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