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- 두양사
실리콘직적회로공정기술
반도체공정개론 - richard C.jaegr저 교보문고
엘립소미트리
반도체공정 및 장치기술 - 이형욱
VLSI FABRICATION PRINCIPLES ◆ Ellipsometer (타원평광해석)
◆ Ellipsometer의 원리
◆ Ellipsometer의 용도
◆ 출 처
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판단은 사용자의 능력에 달려있다.
◆ 출 처
박막공학 - 두양사
초고집적 공정기술 - 두양사
실리콘직적회로공정기술
반도체공정개론 - richard C.jaegr저 교보문고
엘립소미트리
반도체공정 및 장치기술 - 이형욱
VLSI FABRICATION PRINCIPLES
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엘립소미터(ellipsometer) 및 알파스텝(α-step) 드으이 장비로 측정할 수 있다. 산화 막은 두께에 대한 균일성 및 재현성이 양호하여야 하며 파괴전압과 결함상태, 산화 막 내의 다양한 이온밀도(charge density) 등이 조사되어야 한다.
산화 막의 성장
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2-2 University of California at San Diego Library Walk
3.옴스테드 (F. L. Olmsted)
- 작품 3-1 센트럴 파크
- 작품 3-2 브루클린 프로스펙트 파크
4. 렘쿨하스(Rem Koolhas)
- 작품 4-1 트리시티(Tree City)
- 작품 4-2 Grand Palais
- 작품 4-3 넥서스 월드 집합주
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해석기법
Ⅷ. 미술치료의 내용
1. 미술활동을 통한 기법의 탐색
1) 인물화
2) 난화 게임법
3) 풍경 구성법
4) 난화
5) 콜라쥬
6) HTP
7) 가족화(Drawing-A-Family ;DAF), 동적 가족화(Kinetic-Family-Drawing;KFD)
8) 학교생활화(Kinetic-School-Drawing; KSD)
9) 풍경
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