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공정기술, 황호정 저, 생능출판사
· 한국과학기술정보연구원, 이상학 연구보고서
· Introduction to Micro-electronic Fabrication(2/E), Richard C. Jaeger
· http://std.etri.re.kr/
· http://ftp.computernet.pe.kr/jd4-1-1.htm
· http://www.pnk.co.kr/sear/word/read.asp?no=968
· http://kr.e
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Ⅱ-1 탄소나노튜브의 제조
Ⅱ-1 탄소나노튜브의 물성
Ⅱ-1 이용가능 분야
Ⅱ-1 문제점
제 3 장 결 론
Ⅲ-1 문제점 해결
Ⅲ-1 탄소나노튜브의 전망
제 4 장 참고문헌
제 5 장 요약
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기술과 관련 소자기술의 특징과 전망을 정리하고 제시하였다. 정보통신강국으로서 지구촌의 자원 효율화라는 큰 명제 아래 기반기술인 유비쿼터스용 무선통신기술을 적극 개선 및 발전시켜야 함은 물론이고 원천적으로 소자기술 및 공정기
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기술 및 영업비밀, 특허권 등의 사용을 허락하는 동시에 제조, 노무, 재무, 점포관리 등 경영전반에 걸쳐 지도와 조언을 함으로써 자기가 제공하고 있는 것과 동동한 품질을 갖는 제품 또는 서비스를 일반 수요자에게 제공하는 것을 목적으로
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공정 및 측정 , 전자자료사, 1995, pp.123
5. 이종덕, 실리콘집적회로 공정기술, 대영사, 1997, pp.149
6.반도체 산업 및 반도체 재료 산업의 실태와 전망, 데이콤 산업연구소,1998,pp.117 단결정 성장공정
연마공정
Epitaxial 공정
노광공정
박막
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때문에 기계적 성질이 뛰어나고
열 응력에 대한 저항이 우수 sofc원리
원통형 sofc
평판형 sofc
sofc 특성
sofc 최우선과제
양극재료
양극소재개발현황
음극재료
음극소재개발현황
새로운음극물질
참고문헌
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LG 전자, 한국단자공업 등이 그 뒤를 잇고 있다.
reference
무선통신 단말 기술/시장보고서 부품 개발 동향 -한국전자통신연구원-
수동소자 집적화 기술 -송재성, 김인성-
수동소자 집적화 및 응용 기술 -한국 전기 연구원- 1. 배경
2. 커패시
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LG 전자, 한국단자공업 등이 그 뒤를 잇고 있다.
reference
무선통신 단말 기술/시장보고서 부품 개발 동향 -한국전자통신연구원-
수동소자 집적화 기술 -송재성, 김인성-
수동소자 집적화 및 응용 기술 -한국 전기 연구원- 1. 배경
2. 커패시
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자기코어 메모리를 대체하기 위한 신기술이 필요 하였으며 이로 인해 인텔은 경쟁상대인 페어차일드사와 모토롤라와는 비교되는 마이크로칩 제조용 MOS 공정기술을 개척해 반도체 메모리 부분에서 선두주자의 입지를 구축했다.
인텔은 1968
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기술개발 투자에도 박차를 가할 수 있을 것이다.
또 다른 기술 개발 입장에서 인류의 가장 큰 숙제인 석유가 아닌 대체 에너지 개발에도 미흡한 것이 사실이다. 석유는 향후 50년 후에 바닥이 난다고 한다. 그렇다면 지금의 고유가는 계속 가
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