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EM에서는 시료의 특정한 결정면을 통하여 전자 채널링이라는 형태의 회절반응을 한다. 즉, 전자는 결정면에 따라서 채널링을 일으키고, 이 정도는 결정면의 원자 밀집도와 간격 등에 의해서 정해진다. 이 신호를 이용하면 결정 방위와 대칭성,
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LaB6 Filament
필라멘트의 음극를 LaB6로 만들었으며 음극끝을 뾰족하게 만들어 사용한다. 단결정 LaB6는 W 필라멘트처럼 전류로 직접 가열할 수 없어서 외부의 가열기를 이용하여 1700 ~2000K까지 온도를 올려 사용한다. LaB6는 W 필라멘트보다 휘도가
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필라멘트 또는 LaB6 결정), Electron beam을 집속하는 그리드, Electron beam의 방향을 조정하거나 Electron beam을 주사할 수 있는 편향 판(deflection plate) 등으로 이루어져 있다. 상업적으로 생산되는 전자총은 그 Electron beam의 에너지가 3∼5 keV이고 방출 전
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필라멘트(W, Ta, LaB6)에서 방출되는 열전자를 이용한다. 필라멘트와 양극간에 고전압(보통 60-150KV)을 인가하여 전자를 가속하며 필라멘트 근방에는 그리드 또는 Wehnelf 라는 제3의 Bais전극을 배치하여 필라멘트와 양극간의 공간전위분포를 형성
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