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CVD에 비해서 좋지 않다. 또한 장치가 복잡하고 가격이 비싸 대량 생산이 어려운 단점이 있다.
6. Photo CVD
Gas phase나 표면에 흡착된 물질을 분해하기 위한 에너지원으로 광원을 이용하는 CVD 법이다. 광원의 에너지를 반응 기체의 활성화를 이용
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PE-CVD, ICV-CVD, LP-CVD 등다양한 CVD 성장법을 연구하여 고품질의 대면적그래핀을 저온에서 성장하기 위한 연구가진행중이다
4. 에피택시 합성법
에피택시합성법은 실리콘카바이드(SiC) 와 같이 탄소가 결정에 흡착되거나 포함되어 있는 재료를 약1
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CVD(저압 화학기상증착) 장비를 공급하는 유진테크, PE-CVD(플라즈마 화학증착) 장비를 공급하는 원익IPS, 주성엔지니어링, 테스 총 4개 업체를 눈여겨볼 만하다
테스 외 원익IPS, 주성엔지니어링, 유진테크는 ALD(원자층 증착) 장비 국산화에 집중
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CVD)
2. 화학 기상 증착 (CVD)
분류기준 : 반응 에너지원
이름 : Thermal CVD
특징 : 반응기에 주입된 반응기체의 분해 및 박막 증착 시 열에너지를 이용하는 CVD 방법
이름 : PE CVD
특징 : Plasma Enhanced CVD로서, 반응기내
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