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쉽기 때문이다. PVD
evaporator : thermal, e-beam, laser
sputtering : DC, RF, 마그네트론스퍼터링
step coverage
CVD
homogeneous reaction & Heterogeneous reaction
Mass Transport Controlled vs Surface Reaction Controlled
Thermodynamics vs Kinetics
MOCVD
PECVD
HW-CVD
Furnace
ICP-CVD
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종류
① DC sputtering :
② RF sputtering
③ reactive sputtering
④ magnatron sputtering
○ RF sputtering
① Self bais :
● Hybrid and modified PVD Processes
․ Ion Platind 법
● PVD박막의 비교
● ARC PLASMA DEPOSITION
● CVD의 종류
■ 유전체의 범주
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터보 분자 펌프
9) 확산펌프
10) 이젝타 펌프
11) 흡착펌프
12) 이온펌프
13) 게터펌프
14) 승화펌프
15) 저온 냉각 펌프
● PVD(Physical Vapor Deposition)
1. 코팅방법
● CVD(Chemical Vapor Deposition)
• CVD와 PVD의 장단점
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참고문헌
● 네이버 지식 - 재료과학과 공학
● 한국 세라믹 학회지 1990년 27권 1호
● 한국 세라믹 학화지 2003년 40권 1호
● 물리학과 첨단세계 2005년 10월 ■ 박막 제조 공정
펌프종류
● Sputtering의 종류
PVD
CVD
유전체란
강유전체란
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대하여 활발한 연구, 검토가 이루어지게 됨으로써 용사기술이 보다 고도화 되고, 용사제품의 신뢰성도 높아지는 계기가 되었다.
또한 신소재, 기능재료의 개발과 함께 세라믹스를 대상으로 하는 플라즈마 세라믹 용사법이 개발되었다. 이
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