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것은 옳지 않다.
번호
정 답
번호
정 답
1
fatal
16
2
2
depth
17
2
3
muscular
18
1
4
correct
19
3
5
department
20
1
6
3
21
5
7
2
22
1
8
1
23
그는 더 잘 알았었어야 했는데..
(그는 어리석었다.)
9
4
24
3
10
4
25
3
11
3
26
1
12
1
27
1
13
2
28
2
14
4
29
1
15
2
30
1 1~30번
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Depth Of Focus,초점심도)에서 100nm 이하의 해상도로 노광이 가능하다.
EUV Technology
k1 factor와 DOF(초점심도)의 관계
CD range :350nm ~ 100nm
( John E. Bjorkholm, Intel technology Journal )
4-mirror camera의 schematic diagram
( John E. Bjorkholm, Intel technology Journal )
Two-aspherical
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Resolution & Depth of Focus
(9) Lithography Tool vs Design Rule
(10) Cross-sectional View (130㎚ L/S)
(11) Proximity & Contact Lithography
(12) Projection Lithography
(13) Method of Projection Lithography
(14) Lithographic Exposure System
(15) 157nm Lithography 1. 개요 및 응용분야
2. 이 론 /
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Correction Unit Load
(kg/cm2)
Standard Unit Load
(kg/cm2)
CBR(%)
55
25
10 1. 서론
1.1 개요
1.2 목적
2. 이론적 배경
2.1 CBR의 정의
2.2 팽창비
2.3 하중강도-관입량곡선의 수정
2.4 시방서 또는 현장다짐의 단위중량에 대응하는 지지력비의 결정
3. 시
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depth. Lastly, studying and living in the U.S. would provide me with the opportunity to have a cross-cultural knowledge, experience and sensitivity.
Upon completion of my graduate study from your school, I plan to return to Korea where I would like to dedicate myself to teaching students as well as
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